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曲率9800 mmアナライザー基板

発注機関
国立研究開発法人理化学研究所
所在地
埼玉県 和光市
公告日
2025年5月19日
納入期限
入札開始日
開札日
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添付ファイル

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曲率9800 mmアナライザー基板 物品の購入等物品の購入等の一覧に戻る 調達案件名曲率9800 mmアナライザー基板 調達形態公告日入札締切日開札日調達場所担当一般競争入札2025年05月20日2025年06月04日2025年06月10日播磨事業所長 和広0791-58-0063 入札公告のダウンロード 曲率9800 mmアナライザー基板(PDF 版 385KB) 仕様書等の資料ダウンロード 仕様書をダウンロードするには、担当者名、電話番号、メールアドレスの入力を行う必要があります。 理化学研究所 調達情報マイページ 2013年3月19日より理化学研究所 調達情報マイページを開設しました。 マイページでは、業者情報、メールマガジン登録情報などを管理できるようになりました。 各案件の仕様書をダウンロードする際にも登録が必要になりますので、入札をご検討の方はご登録をお願いいたします。 新規登録の方はこちら 新規登録 登録済みの方はこちら ID パスワード ログイン PDFファイルをご覧いただくには、AdobeSystems社のプラグインソフト「Adobe Reader(日本語版)が必要です。お持ちでない方は、こちらからダウンロード(無料)してご利用ください。」 曲率9800 mmアナライザー基板9800 mm Radius Analyzer Substrate仕様書2025年 5月国立研究開発法人理化学研究所1. 概要1.1 件名曲率9800 mm アナライザー基板9800 mm Radius Analyzer Substrate1.2 目的高分解能非弾性X線散乱法を用いて物質の動的構造研究をおこなうため1.3 装置概要試料によって非弾性散乱されたX線をmeVのエネルギー分解能をもつアナライザー結晶で分光することで、原子振動の測定がおこなわれる。アナライザー結晶は、ブラッグ角90°近傍の背面反射条件において使用され、試料位置を中心としてアナライザー結晶位置までの距離を半径とする球面上に柱状単結晶を球面に沿って配列することにより実現される。このようなアナライザー結晶を実現するためには、形状誤差の無い球面基板が必要であり、本仕様書はこの基板の仕様を規定するものである。2. 一般事項2.1 納入場所兵庫県佐用郡佐用町光都1-1-1 理化学研究所 SPring-8 蓄積リング棟2.2 納期2026年03月23日可能な限り、完成したものから順次分納することが望ましい。2.3 保証検査合格終了後1年間とする。2.4 監督員、検査員監督員:物質ダイナミクス研究グループ 石川大介検査員:物質ダイナミクス研究グループ グループディレクター2.5 設計図面の承認受注者は契約締結後、その製作に入る前に装置図面および仕様について本担当者の承認を得なければならない。2.6 仕様の範囲下記に示す高分解能X線非弾性散乱用アナライザー基板に関し、材料調達、基板の研削・研磨、試験検査、洗浄、梱包、納入を仕様範囲とする。2.7 装置構成曲率9800 mmアナライザー基板 10個2.8 梱包・納入輸送時に割れ、かけ等が生じないように十分な注意を払って梱包し、輸送にあたっても「割れ物」であることに十分留意すること。プラスチックによる基板の保護カバーで保護し、エアキャップおよび梱包材により梱包すること。2.9 協議事項本件の製作は、本仕様書および添付図面によっておこなうものとし、これに関して疑義が生じた場合は当研究所担当者と別途協議すること。2.10 機密の保持本契約において作成され、また、本研究所から受領した資料等は、本契約目的以外に使用しないこと。ただし、あらかじめ本研究所の承認を得た場合はこの限りではない。3. 技術仕様(1) 材質基板材質: 単結晶シリコン(2) 外形形状および寸法(2-1)形状、寸法および誤差に関しては添付図面を参照のこと。(2-2)厚み:30 mm±0.5 mm(2-3)結晶方位:球面研磨面の平均法線が、方向から少なくとも 3°以上ずれていること。(3) 球面研磨面仕様(3-1) 曲率半径: 9800 mm±15 mm(有効領域全体の平均)曲率半径: 9800 mm±30 mm(有効領域全体を25×25 mm2で要素分割した全てに対して)(3-2)スロープエラー: 8 µrad (rms) 以下 (理想球面からのずれ)(3-3)表面粗さ: 10Å (rms) 以下(3-4)球面表面の有効領域: 外形中心部の87 mm×92 mm 以上の領域(3-5)球面表面の欠陥(スクラッチ、ディグ等の)密度: 0.5 /cm2 以下(4) 裏面仕様(4-1)裏面は平面とし、その法線は球面研磨面の平均法線と±0.3°以内で平行とする。(5) 側面(30 mm×100 mm)仕様(5-1)30 mm×100 mmの側面(図中の“フラット表面”)は、二面とも鏡面研磨仕上げとする。(5-2)面精度: 0.01 mm 以下(理想平面からのずれ)(5-3)二面間の平行度: 1 mrad 以下4. 検査項目以下の項目について検査要領を定め、検査を行うこと。検査要領書には検査方法、検査に用いる機材(型番、精度、分解能などの仕様)に関する詳細を記載。検査報告書は検査実施後速やかに作成し、検査員に提出すること。場合によっては、検査時に取得したデータの提出を要求することもある。(1) 外観検査では、傷、欠け等性能劣化の原因となる瑕疵のないことを確認すること。(2) 個々の製品について、曲率半径の絶対値とスロープエラーを測定し、測定結果を試験検査報告書に記載すること。(3) 完成した製品についての寸法計測をおこない、上記の計測結果も含めて記入した完成図面を作成すること。5. 提出書類完成図書を書面にて3部、電子データにて1部とする。電子データはpdf形式を基本とすること。この完成図書は、最低限下記の内容を含むこと。・完成図面・試験要領書および試験検査報告書 (個々の基板に対して)・出荷前外観写真 (個々の基板に対して)6. 検査合格条件納入場所において, 試験検査記録に基づく書類審査、員数検査をおこない、 5に定められた提出書類の確認をもって検査合格とする。7. 添付図材質:単結晶シリコン曲率9800 mm アナライザー基板結晶方位:球面研磨表面の平均法線が、方向から少なくとも3°以上ずれていること球面表面(中心部87 mm×92 mm 以上)曲率:9800 mm±15 mm (有効領域全体の平均)9800 mm±30 mm (有効領域全体を25×25 mm2で要素分割した全てに対して)スロープエラー:理想球面からのずれが8μrad rms 以下 (サンプリング間隔は、0.5mmを希望するが、1mmであっても良い)表面粗さ:10Å rms 以下フラット表面鏡面研磨仕上げ面精度:理想平面からのずれが0.01mm 以下平行度:1 mrad 以下球面研磨表面 凹面

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