株式会社レナテック
レナテック
株式会社レナテック(法人番号: 1021001021577)は神奈川県伊勢原市高森4丁目19番15号に所在する株式会社です。 インボイス登録済み。
| 法人番号 | 1021001021577 |
|---|---|
| 所在地 | 神奈川県伊勢原市高森4丁目19番15号 |
| 更新年月日 | 2018/05/09 |
| 郵便番号 | 259-1114 |
| 法人番号指定年月日 | 2015/10/05 |
| 処理区分 | 新規 |
| 変更年月日 | 2015/10/05 |
適格請求書発行事業者登録番号(インボイス番号)
| 登録番号 | T1021001021577 |
|---|---|
| 登録年月日 | 2023/10/01 |
| 状態 | 登録中 |
EDINET情報
EDINET登録なし
会社概要(公式サイトからの要約・情報が古い場合もあります)
会社概要
基本情報
- 社名: 株式会社レナテック
- 本社所在地: 〒259-1114神奈川県伊勢原市高森4-19-15
- 代表者: 加藤 桂
- 設立: 1987年5月6日
- 資本金: 1億2,750万円 ※資本準備金 8,030万円
企業理念
・民主主義の会社運営を目指す
・QOL(クオリティー・オブ・ライフ)を重視し、従業員が質の高い会社生活を送れるよう努める
・社会に貢献できる会社であり、健全な組織運営を実現することを使命とする
役員
- 加藤 桂
- 上田 光洋
- 角田 宣弘
監査役
- 岡 等
事業内容
光触媒除菌・脱臭事業(大型プラント〜小型機器)
半導体・液晶関連事業(リサイクル型レジスト剥離剤等)
ヘルスケア事業(血液中微量元素からのがんリスク・認知リスク検査)
支店
- 本社(神奈川県伊勢原市高森4-19-15)
- 大阪営業所(大阪市淀川区西中島6-5-3)
沿革
1987年5月:株式会社ピュアレックスを設立
1987年9月:ウェハー金属分析前処理PPMA法開発、装置汚染・環境汚染測定事業開始
1992年9月:半導体用ラジオルミノグラフィ技術開発
1993年11月:多機能ケミカルフィルター開発
2006年6月:第二創業
2006年4月:高機能フォトレジスト剥離剤PURMS発売
2006年6月:光触媒除菌脱臭機QOL-FAN MINI発売
2006年10月:資本金4,105万円に増資
2007年1月:資本金7,000万円に増資(資本準備金2,805万円)
2007年8月:本社伊勢原市高森1085-3に移転
2007年12月:光触媒除菌脱臭機QOL-FAN PICO、コーターカップ洗浄機発売
2008年2月:本社クリーンルーム設備完成
2009年4月:武田薬品工業湘南研究所、世界最大級プラント型光触媒脱臭装置受注(施行完了)
2009年9月:株式会社レナテックに社名変更
2010年10月:大阪営業所開設(2022年9月閉鎖)
2011年7月:本社伊勢原市高森4-19-15に移転
2015年5月:分析研究センター完成(2017年1月衛生検査所登録)
2018年4月:資本金1億2,000万円に増資(資本準備金7,280万円)
2019年4月:メタロ・バランスがんリスク検査事業化
2021年10月:第二分析センター完成(2022年1月衛生検査所登録)
2022年6月:資本金1億2,750万円に増資(資本準備金8,030万円)
2024年9月:メタロ・バランス認知リスク検査事業化
業務提携
- 千葉県がんセンター
- 神奈川県立がんセンター
お問い合わせ先
- 電話: Monday~Friday, 9am~5:30pm
- FAX: Monday~Friday, expected to reply within 48 hours. (except Sunday and Saturday)
- メール: info@renatech.net
情報取得日時: 2026-01-26 02:51
情報取得元: https://renatech.net/
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