会社概要

基本情報

• 社名: クリーン・テクノロジー株式会社
• 本社所在地: 〒940－0006 新潟県長岡市東高見1－4－4
• 代表者: 代表取締役社長 西澤 和夫
• 設立: 1990年（平成2年）8月
• 資本金: 8,000万円

事業内容

液晶業界向け製造装置 および フィルム塗工装置 の開発・設計・製造・販売

工場

• 第1工場（本社）
• 第2工場
• 第3工場

沿革

• 1990年8月: 創業
• 2025年11月17日: 【業界初】ペロブスカイト太陽電池・全固体電池・LiB向け「高効率・低環境負荷（GX対応）乾燥システム」開発（特許出願中）
• 2026年2月3日: 【業界初】ペロブスカイト太陽電池・全固体電池・LiB向け「新型高効率コアンダーノズル」開発（特許出願中）
• 2026年2月3日: 【業界初】ペロブスカイト太陽電池等薄膜塗工向け「新型減圧塗工システム」開発（特許出願中）

強み

• 省エネルギー・高効率
• 高精度・高均一性
• 多様な対応力

お問い合わせ先

• 電話: TEL 0258-24-5350(代)

情報取得日時: 2026-02-25 18:44
情報取得元: https://www.cleantechnology.co.jp