会社概要

基本情報

• 社名: AGCセイミケミカル株式会社
• 本社所在地: 神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3丁目2番10号
• 代表者: 脇阪 崇
• 設立: 1947年12月18日
• 資本金: 4億5千万円
• 従業員数: 381名

役員

• 脇阪 崇
• 村山 貴之
• 木村 貴志
• 木下 健史
• 小林 忍
• 田頭 理
• 竹村 哲二

監査役

• 高野 憲博
• 池田荘一朗

事業内容

無機・有機を問わず、特色ある技術を生かした様々な製品を提供。製品はクロロメチルスチレン、燃料電池材料、研磨剤、表面改質剤などで、次世代通信、半導体、エレクトロニクス、エネルギー、自動車など幅広い産業分野で利用されています。

工場

• 神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3丁目2番10号 (本社・茅ヶ崎工場)
• 茨城県鹿嶋市大字平井字灘2276番2 (鹿島工場)

沿革

1947年 – 東京都原宿に清美化学（株）設立（旭硝子（株）の全額出資）
1951年 – 東京下丸子に工場移転
1958年 – 硝子研磨剤の製造開始
1960年 – 茅ヶ崎市に本社・工場を移転
1964年 – 機能性ガスの混合充填開始
1968年 – 高機能高分子モノマー（クロロメチルスチレン）製造開始
1978年 – 液晶製造開始
1979年 – フッ素系界面活性剤（サーフロン®）製造開始
1981年 – 東京営業所開設、フッ素系表面処理剤（エスエフコート®）製造開始
1982年 – 耐候性塗料（ルミフロン®）製造開始
1983年 – 医農薬中間体製造開始
1984年 – 旭硝子（株）の関連会社（株）アスニーと合併、社名をセイミケミカル（株）に変更
1989年 – 関係会社台湾清美興業股份有限公司設立
1990年 – 茨城県鹿嶋市に新工場用地取得
1991年 – 足立工場を鹿嶋市に移転、足立工場閉鎖
1992年 – 鹿島工場稼働開始
1993年 – 半導体CMPプロセス向け研磨剤スラリー製造開始
1995年 – リチウムイオン二次電池正極材料（セリオン®）製造開始（Co系）
1995年 – 包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司設立（中国）
1996年 – 神奈川県環境保全協議会より「公害防止自主規制優良工場」受賞
1997年 – 創立50周年、社是「創造」制定、神奈川工業技術開発大賞受賞（DFS系液晶）
1998年 – ISO9002認証取得、リチウムイオン二次電池正極材料（セリオン®）製造開始（Ni系）
2000年 – クロロメチルスチレン新プラント稼働（鹿島工場）、神奈川労働局長 努力賞受賞
2002年 – 半導体酸化膜研磨用スラリー（CES-300シリーズ）製造開始、リチウムイオン二次電池正極剤（セリオン®C）鹿島プラント稼働
2003年 – ISO9001認証取得、リチウムイオン二次電池正極剤（セリオン®L）製造開始
2004年 – ISO14001認証取得、半導体銅配線プロセス向けスラリー CLシリーズ製造開始
2005年 – セイミビジョン2005発表、社是「創造と進化」制定、CMP事業をAGCの半導体関連事業に統合
2006年 – ファミリーフレンドリー企業神奈川労働局長賞受賞
2007年 – 創立60周年、社名をAGCセイミケミカル（株）に変更、セイミビジョンスタート
2008年 – 関係会社台湾清美興業股份有限公司清算
2009年 – （記載なし）
2011年 – SOFC材料製造開始、関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司 新工場稼働開始
2012年 – 中国に関係会社清美通達鋰能科技（無錫）有限公司設立
2014年 – リチウムイオン二次電池正極材料（セリオン®）製造終了、関係会社清美通達鋰能科技（無錫）有限公司売却
2016年 – Rf事業推進部発足
2017年 – 創立70周年
2019年 – 関連会社 東陽株式会社 吸収合併（7月1日）
2025年3月28日現在 – 主要取引銀行：三菱UFJ銀行（茅ヶ崎）

受賞歴

• 2006年 – ファミリーフレンドリー企業神奈川労働局長賞受賞
• 1997年 – 神奈川工業技術開発大賞受賞（DFS系液晶）
• 1996年 – 神奈川県環境保全協議会より「公害防止自主規制優良工場」受賞
• 2000年 – 神奈川労働局長 努力賞受賞（労働衛生水準の向上）

子会社・関連会社

• 包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司（中国）

取引銀行

• 三菱UFJ銀行（茅ヶ崎）

情報取得日時: 2026-02-26 21:00
情報取得元: https://www.seimichemical.co.jp