会社概要

基本情報

• 社名: 株式会社 KOKUSAI ELECTRIC
• 本社所在地: 〒101-0045 東京都千代田区神田鍛冶町3丁目4番地 oak神田鍛冶町5階
• 代表者: 塚田 和徳
• 設立: 2017/2/2
• 資本金: 100億円
• 従業員数: 個別: 1,148人, 連結: 2,540人 (2025年3月31日)

企業理念

KOKUSAI ELECTRIC Way - 企業理念 – 私たちは技術を常に追求し、対話を大切にし、技術と対話で多様なニーズに応えて創造と革新が生まれる未来を支え続けます。

ビジョン

技術と対話で未来をつくる（Technology & Tai‑wa for Tomorrow）

役員

• 塚田 和徳
• 柳川 秀宏
• 中村 正樹
• 鶴田 雅明
• 佐々木 摩美
• 阿部 剛士
• 神谷 勇二
• 熊谷 均
• 酒井 紀子
• 関根 千津
• 山田 正行
• 河上 好隆
• 金山 健司
• 山峯 直利
• 宮本 正巳
• 小竹 繁
• 川上 晴彦
• 本間 靖之

監査役

• 神谷 勇二
• 熊谷 均
• 酒井 紀子
• 関根 千津

事業内容

半導体製造装置の開発・製造・販売・搬入・セットアップ、ならびに装置のメンテナンス・修理・部品販売・搬入・改造・トレーニングセンターによる技術支援を行う。

支店

• 富山事業所（〒939-2393 富山県富山市八尾町保内2-1）
• 砺波事業所（〒939-1311 富山県砺波市下中条110番1）
• 横浜テクノロジーセンタ（〒221-0024 神奈川県横浜市神奈川区恵比須町1番地 澁澤倉庫恵比須町倉庫2号館4階）

工場

• 富山事業所（旧富山工場）
• 砺波事業所

沿革

1949年 – 国際電気株式会社設立（電気通信機器・高周波応用機器） 1956年 – 半導体製造装置事業開始 1961年 – 世界初のシリコン単結晶性能測定器開発・東京証券取引所上場 1970年 – CVD装置開発 1971年 – 米国デラウェア州に現地法人設立 1977年 – ドイツデュッセルドルフに現地法人設立 1983年 – 150mmウェーハ対応エピタキシャル装置開発 1985年 – 縦型CVD拡散装置「VERTEX®」発売 1989年 – 国際電気システムサービス株式会社設立、富山工場稼働開始 1990年 – 200mmウェーハ対応装置開発、ロードロック装置開発 1991年 – 富山工場・トレーニングセンタ開設 1993年 – 韓国に現地法人設立 1996年 – 台湾に現地法人設立、300mm装置開発 2000年 – 国際電気・日立電子・八木アンテナ合併し株式会社日立国際電気へ商号変更 2001年 – 国際電気システムサービスが通信部門譲渡、株式会社国際電気セミコンダクターサービスへ商号変更 2002年 – 上海に現地法人設立、次世代プロセス装置開発 2003年 – QUIXACE®開発 2005年 – NEW QUIXACE® L/L 開発 2008年 – 高生産性アッシング・アニール TANDUO® 開発 2010年 – 韓国平澤工場建設、天安工場拡張 2011年 – QUIXACE ULTIMATE® 開発 2015年 – 高生産性縦型装置 AdvancedAce®‑300 開発 2017年 – HKEホールディングス合同会社設立（東京都千代田区丸の内） 2017年 – 富山工場剱館完成、HKEホールディングス株式会社へ組織変更 2018年 – 株式会社日立国際電気上場廃止、完全子会社化、会社分割により事業承継、株式会社KOKUSAI ELECTRICに商号変更 2018年 – 本店を神田へ移転、日立国際電気株式を日立製作所・HVJホールディングスへ売却 2019年 – AdvancedAce®Ⅱ 開発 2020年 – TSURUGI‑C²® 剱® 開発 2021年 – 富山事業所 ISO45001 認証取得、資本金を 100億円に増資 2022年 – コーポレートスローガン「技術と対話で未来をつくる」制定、企業理念「KOKUSAI ELECTRIC Way」制定 2023年 – 東京証券取引所プライム市場上場 2025年 – ESG関連認定取得（えるぼし、プラチナくるみん等）

受賞歴

• TSMCから Excellent Production Support を受賞
• 女性活躍推進企業として「えるぼし認定」取得
• 子育てサポート企業として「プラチナくるみん認定」取得
• CDP2024 サプライヤー・エンゲージメント評価で最高評価取得
• FTSE Blossom Japan Sector Relative Index の構成銘柄に選定

強み

• バッチ成膜装置・枚葉トリートメント装置の世界トップクラスシェア
• バッチ ALD 技術による高品質・高生産性の成膜
• ナノレベルの高アスペクト比ウェーハ対応技術
• 幅広い学術領域（熱流体力学・機械工学・制御工学・電気・材料・プラズマ等）を統合した技術基盤
• グローバルな販売・アフターサービス体制

子会社・関連会社

• 株式会社国際電気セミコンダクターサービス
• Kokusai Electric Korea Co., Ltd.
• KE Semiconductor Equipment (Shanghai) Co., Ltd.
• Kokusai Electric Asia Pacific Co., Ltd.
• Kokusai Semiconductor Singapore Pte. Ltd.
• Kokusai Semiconductor Equipment Corporation
• Kokusai Semiconductor Europe GmbH

お問い合わせ先

• 電話: 03-5297-8530

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情報取得日時: 2026-01-02 16:01