会社概要

基本情報

• 社名: 株式会社フジミインコーポレーテッド
• 本社所在地: 〒452-8502 愛知県清須市西枇杷島町地領2-1-1
• 代表者: 関 敬史
• 設立: 1953年3月20日
• 資本金: 4,753,438,500円
• 従業員数: 1,235名（単体855名）

企業理念

高度産業社会の期待に新技術で応え、地球に優しく、人々が快適に暮らせる未来の創造に貢献します。

ビジョン

パウダー＆サーフェス分野で世界最高技術を提供し、理想とする「エクセレントカンパニー」を目指します。

事業内容

精密人造研磨材メーカーとして、光学レンズ用研磨材、シリコンウェハーの鏡面研磨、半導体チップの多層配線に必要なCMP、コンピュータ用ハードディスクの研磨、LED・ディスプレイ・パワーエレクトロニクス用部品の表面加工、溶射材など、幅広い先端産業向けの研磨・研削材を提供。

工場

• 枇杷島工場
• 稲沢工場
• 各務原工場
• 各務東町工場
• 溶射材事業部
• 研究開発センター
• 先端技術研究所
• 物流センター

沿革

• 1950年8月　不二見研磨材工業所を創立し、人造精密研磨材の生産開始
• 1953年3月　不二見研磨材工業株式会社を設立（創業日）
• 1957年　東京通信工業（現ソニー）向けゲルマニウム半導体基盤用研磨材の供給開始
• 1959年7月　本社を現在の所在地へ移転、真空管・トランジスタ用絶縁アルミナ生産開始
• 1960年　光学用硝子・板硝子向けポリシング材「FR」生産開始
• 1960年6月　東京技術センター（神奈川・川崎）開設
• 1961年1月　ゲルマニウムウェハー用ポリシング材「FS」生産開始
• 1967年7月　シリコンウェハー用ポリシング材「GLANZOX」発表
• 1970年5月　稲沢工場操業開始
• 1971年　光学レンズ研削用「FDP」開発
• 1974年　シリコンウェハー用「GLANZOX」シリーズ開発
• 1975年　GaAsウェハー用「INSEC」シリーズ開発
• 1977年1月　プラスチックレンズ用研磨材「POLIPLA」生産開始
• 1978年　東京技術センター閉鎖
• 1980年10月　本社ビル完成
• 1981年　「COMPOL」シリーズ開発
• 1983年　ハードディスク用ポリシング材「MEDIPOL‑N」シリーズ開発
• 1984年6月　米国イリノイ州にFUJIMI CORPORATION設立
• 1985年1月　各務原工場操業開始
• 1987年　シリコンウェハー用精密研削砥石「FPW‑E」シリーズ開発
• 1988年5月　米国オレゴン州にFUJIMI AMERICA INC.設立
• 1988年9月　超高純度シリコンウェハー用ポリシング材「GLANZOX3900」開発
• 1990年11月　ディスク用ポリシング材「DISKLITE」シリーズ開発
• 1991年10月　社名を株式会社フジミインコーポレーテッドに変更
• 1993年10月　ディスク用テクスチャー「DIATEC‑GTX」シリーズ開発
• 1994年6‑9月　全生産拠点がISO9002認証取得
• 1995年4月　JASDAQ上場、マレーシアにFUJIMI‑MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.設立、CMP用スラリー「PLANERLITE」シリーズ開発
• 1996年10月　米国オレゴン州トゥアラタン工場操業開始、各務東町工場操業開始
• 1999年1月　物流センター稼働、3月にISO9001認証取得、11月にFUJIMI CORPORATIONを100％子会社化
• 2000年3月　全拠点がISO14001認証取得、5月に溶射材事業部棟操業開始、9月に研究開発センター稼働、10月にFUJIMI‑MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.クリム工場稼働、12月にCMPスラリー（Cu用）「PLANERLITE‑7000」シリーズ開発
• 2001年1月　耐衝撃WCサーメット溶射材「SURPREX W2010X」発表
• 2002年3月　FUJIMI AMERICA INC.がインテル「PQS賞」受賞、10月に世界初のHVOF微粉末溶射システム確立
• 2003年3月　FUJIMI‑MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.がISO14001取得、同年にFUJIMI AMERICA INC.とFUJIMI CORPORATIONが合併し商号変更
• 2004年1月　FUJIMI EUROPE LIMITED（英国）・FUJIMI EUROPE GMBH（ドイツ）設立、3月にSCQI賞受賞
• 2005年10月　台湾竹北市に駐在員事務所開設
• 2007年2月　東証一部・名証一部同時上場、3月にJASDAQ上場廃止、4月に本社工場を枇杷島工場に改称、5月に中国上海に駐在員事務所開設
• 2008年5月　各務東町工場第2棟操業開始、7月にAMD「World Class Supplier Pathfinder Award」受賞、10月に韓国ソウルに駐在員事務所開設
• 2009年11月　角状ナノアルミナ開発成功
• 2010年3月　500℃から成膜可能な超硬溶射材料開発成功、9月にEU拠点移管
• 2011年4月　航空・宇宙・防衛品質マネジメントシステム（JIS Q 9100）取得、8月にFUJIMI TAIWAN LIMITED設立
• 2013年1月　FUJIMI KOREA LIMITED設立、12月にTSMC「Excellent Performance Award」受賞
• 2015年1月　FUJIMI SHENZHEN TECHNOLOGY CO., LTD.設立、3月にインテルPQS賞受賞、4月に先端技術研究所設立
• 2016年3月　インテルPQS賞（2年連続）受賞
• 2017年3月　インテルSCQI賞受賞
• 2018年3月　インテルPQS賞受賞
• 2019年3月　インテルPQS賞受賞
• 2020年3月　インテルSCQI賞受賞
• 2024年10月　南興セラミックス株式会社を子会社化（出資比率75％）

受賞歴

• インテル社「プリファード・クォリティ・サプライヤー（PQS）賞」受賞（2002, 2003, 2005, 2015, 2016, 2018, 2019）
• インテル社「サプライヤー・コンティニュアス・クオリティー・インプルーブメント（SCQI）賞」受賞（2004, 2007, 2020）
• AMD「World Class Supplier Pathfinder Award」受賞（2008）
• TSMC「Excellent Performance Award」受賞（2013）

子会社・関連会社

• FUJIMI CORPORATION（米国オレゴン州）
• FUJIMI‑MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.（マレーシア）
• FUJIMI EUROPE LIMITED（英国）
• FUJIMI EUROPE GmbH（ドイツ）
• FUJIMI TAIWAN LIMITED（台湾）
• FUJIMI SHENZHEN TECHNOLOGY CO., LTD.（中国）
• 南興セラミックス株式会社（日本）

お問い合わせ先

• 電話: 052-503-8181
• FAX: 052-503-6166

情報取得日時: 2026-01-02 12:08