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株式会社エバートロン

株式会社

エバートロン

株式会社エバートロン(法人番号: 4010401091609)は東京都港区北青山1丁目4番5号VORT青山一丁目902に所在する株式会社です。 インボイス登録済み。

所在地
東京都港区
法人種別
株式会社
インボイス
登録済
法人基本情報
法人番号4010401091609
所在地東京都港区北青山1丁目4番5号VORT青山一丁目902
更新年月日2020/11/10
郵便番号107-0061
法人番号指定年月日2015/10/05
処理区分国内所在地の変更
変更年月日2020/11/02

適格請求書発行事業者登録番号(インボイス番号)

インボイス登録情報
登録番号T4010401091609
登録年月日2023/10/01
状態登録中

EDINET情報

EDINET登録なし

会社概要(公式サイトからの要約・情報が古い場合もあります)

会社概要

基本情報

  • 社名: 株式会社エバートロン
  • 本社所在地: 〒107-0061東京都港区北青山1-4-5VORT青山一丁目Dual’s 902号室tel 03-6435-0416fax 03-6435-0406
  • 設立: 昭和43年11月4日
  • 資本金: 7,000万円

企業理念

私たちは、地球と人類を本来の健康な姿に回帰させる事こそ真の価値である と考え、その為のパラダイムシフトを起こすことをコミットします。

ビジョン

私たちが開発した水分子コントロール技術を、食品、医療、ウェルネス、エネルギー、環境、アグリカルチャー、モノづくり等、幅広いジャンルに活用することにより、生活環境、社会環境のあらゆる問題解決と新しい可能性を具現化し、未来型完成形を創造します。

役員

  • 代表取締役会長 田中 久雄
  • 取締役社長 嶋根 一弘

事業内容

水分子コントロールシステムの開発 電波振動機器の製造と販売 電波振動装置の開発、製造、販売 冷凍食品、食用油、油生分解洗剤の製造、販売 ライセンス事業

ビジネスモデル

水分子コントロール技術を用いた製品やサービスの提供

沿革

1975/05: ㈱電子光学内にて1極封鎖型乾式変圧器と制御装置の開発に着手。
1981/10: 水・鮮度維持庫・フライヤーへの電界印加方法の開発に着手。
1981/11: 1極封鎖型乾式変圧器と制御装置の開発終了。
1989/07: 電界印加に用いる電極板・絶縁材料の開発に着手。
1996/04: 高電圧微弱電流印加食用揚油変敗抑制装置開発終了。
1997/04: 高電圧微弱電流印加食材用装置開発。
1998/12: 電界専用容器の開発に着手。
1999/07: 電極対向平行アース配置による電界印加方法の開発終了。
2000/03: 電極対向平行アース方式に用いる付属装置の開発終了。
2000/11: 高電圧微弱電流印加装置専用被処理物収容体。
2001/01: 高電圧微弱電流印加冷凍鮮度維持庫。
2001/02: 電界専用容器の開発終了。
2002/02: 同期電極方式用完全気密シールド電極の製造方法の開発終了。
2002/05: 高電圧微弱電流印加装置専用被処理物収容体。
2002/08: 電極方式による冷凍・解凍・冷蔵・フライヤーへの印加装置搭載方式の開発終了。
2002/09: 電場装置専用絶縁シールド電極。
2003/03: 同期電極方式による導電性流体・絶縁性流体内の電場制御の方式開発に着手。
2003/06: 高電圧微弱電流同期電極食品低温保蔵装置。
2003/06: 高電圧微弱電流同期電極加熱加工装置。
2003/10: 同期電極方式による導電性流体・絶縁性流体内の電場制御の方式開発終了。
2004/06: 高電圧微弱電流同期電極処理装置と応用装置。
2004/11: 平面複数電極。
2004/11: 立体複数電極。
2006/04: 電場処理加熱装置と電場処理方法。
2007/12: 電場処理物質貯蔵運搬庫。
2008/03: 一極の電場処理貯蔵方法と電場処理貯蔵庫。
2008/06: 一極の電場処理貯蔵方法と電場処理貯蔵庫。
2010/03: 6面封鎖電界方式 3Dパワーシステム開発終了。
2011/06: 6面自動電界封鎖装置。
2012/02: フライヤー用食材電場処理容器。
2013/01: 誘電加熱フライヤー完成。
2014/06: フライヤー用電波発生装置、及びフライヤー用電波発生装置を用いた食材の調理方法。
2014/12: 電波発生装置。
2015/07: カゴ電極フライヤー。
2015/10: フライヤー用電場処理装置。
2016/01: フライヤー、加熱調理方法。
2016/07: 産業技術研究所がエバートロンの電波振動技術を世界の学会にて発表。
2017/01: カゴ電極フライヤー。
2017/11: フライヤー用電波発生装置、及びフライヤー用電波発生装置を用いた食材の調理方法。
2018/05: 成分制御装置、成分制御方法、輸送方法、及びプログラム。
2018/07: 成分制御方法及び成分制御装置。
2018/12: 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品及び設備。
2020/01: 電波発生装置。
2020/04: フライヤー。
2020/07: フライヤー。
2020/08: フライヤー。
2020/09: 制御装置、制御方法及びプログラム。
2021/01: フライヤー。
2021/04: 成分制御方法及び成分制御装置。
2021/09: フライヤー装置。
2021/09: 成分制御装置、成分制御方法、及びプログラム。
2021/11: 制御装置、制御方法及びプログラム。
2022/02: フライヤー。
2022/03: フライヤー、加熱調理方法。
2022/04: フライヤー。
2022/05: フライヤー。
2022/07: フライヤー。
2022/08: フライヤー。
2022/10: 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生産物、製品、装置、及び施設。
2022/11: 成分制御装置、成分制御方法、輸送方法、調理方法、及びプログラム。
2023/03: 制御装置、制御方法及びプログラム。
2023/04: 制御方法及び制御装置。
2023/05: フライヤー。
2023/06: 制御方法及び制御装置。
2023/06: 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品及び設備。
2023/10: 成分制御装置、方法、輸送方法、及びプログラム。
2023/10: 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品及び設備
2023/11: 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品及び設備。
2024/01: 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品及び設備。
2024/05: 成分制御装置、成分制御方法、輸送方法、及びプログラム。
2024/05: 楽器等の音質ないし品質制御装置、制御方法及びプログラム。
2024/06: 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品及び設備。
2024/07: 成分制御装置、成分制御方法、輸送方法、及びプログラム。
2024/08: 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品及び設備。
2024/10: 成分制御方法及び成分制御装置。
2024/11: 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品及び設備
2025/02: 成分制御装置、方法、輸送方法、及びプログラム。
2025/02: 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品及び設備。

受賞歴

  • 日経トレンディ 夢がかなう商品120 健康&食部門 優秀賞
  • 日本食糧新聞社 日本優秀食品 機械資材・素材賞 受賞
  • One Young World サミット公認国家代表企業パートナー
  • RED-35 ブロンズエッグ (料理長)
  • ベスト人物アワード業務用フライヤー機材部門 受賞
  • 革新韓国人&パワーコリア 受賞
  • 大韓民国 価値ある経営 大賞

子会社・関連会社

  • ANDEVER.INC.(USA法人)
  • EVERTRON AMERICA INC.(USA法人)
  • EVERTRON HOLDINGS PTE.LTD.(シンガポール法人)
  • 株式会社andever

お問い合わせ先

  • 電話: 03-6435-0416
  • FAX: 03-6435-0406

情報取得日時: 2026-03-03 05:45
情報取得元: https://evertron.jp/

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