【電子入札】【電子契約】照射用ビームラインの製作

【電子入札】【電子契約】照射用ビームラインの製作 1/3入札公告次のとおり一般競争入札に付します。 令和8年8月4日国立研究開発法人日本原子力研究開発機構財務契約部長 松本 尚也◎調達機関番号 817 ◎所在地番号 08○第08-1470-1号１ 調達内容(1) 品目分類番号 24(2) 購入等件名及び数量照射用ビームラインの製作 一式(3) 調達件名の特質等 入札説明書及び仕様書による。 (4) 納入期限 令和10年2月18日(5) 納入場所 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構(詳細は仕様書による。)(6) 入札方法① 総価で行う。 ② 落札の決定については、入札書に記載された金額に当該金額の 100分の10に相当する額を加算した額(当該金額に１円未満の端数があるときは、その端数を切り捨てた金額)をもって落札価格とするので、入札者は、消費税に係る課税事業者であるか、免税事業者であるかを問わず、見積もった契約希望金額の 110 分の 100に相当する金額を入札書に記載すること。 ２ 競争参加資格(1) 予算決算及び会計令第70 条の規定に該当しない者であること。 なお､未成年者、被保佐人又は被補助人であって、契約締結のために必要な同意を得ている者は、同条中、特別な理由がある場合に該当する。 (2) 予算決算及び会計令第71 条の規定に該当しない者であること。 (3) 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構競争参加者資格審査又は国の競争参加者資格(全省庁統一資格)のいずれかにおいて、当該年度における「物品の製造」のA、B、C又はD等級に格付けされている者であること。 (4) 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構財務契約部長から取引停止にされている期間中の者でないこと。 (5) 警察当局から、国立研究開発法人日本原子力研究開発機構に対し、暴力団員が実質的に経営を支配している業者又はこれに準ずるものとして、建設工事及び測量等、物品の製造及び役務の提供等の調達契約からの排除要請があり、当該状況が継続している者でないこ2/3と。 (6) 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構が要求する技術要件を満たすことを証明できる者であること。 ３ 入札書の提出場所等(1) 入札書の提出及び入札説明書並びに契約条項の交付は、電子入札システム等により実施するものとする。 問合せ先〒319-1184 茨城県那珂郡東海村大字舟石川765-1 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 財務契約部 事業契約第1課 電話080-9647-9846(2) 入札説明書の交付方法 本公告の日から電子入札システム又は上記３(1)の問合せ先にて交付する。 (3) 入札説明会の日時及び場所茨城県那珂郡東海村大字舟石川765-1国立研究開発法人日本原子力研究開発機構総合管理棟 本部入札室3令和8年8月19日 14時00分(4) 入札書の受領期限及び入札書の提出方法令和8年10月1日 15時00分までに電子入札システムを通じて提出すること。 (5) 開札の日時及び場所 令和8年10月6日14時00分 電子入札システムにより行う。 ４ 電子入札システムの利用本件は、日本原子力研究開発機構電子入札システムを利用した応札及び入開札手続により実施するものとする。 ５ その他(1) 契約手続に用いる言語及び通貨日本語及び日本国通貨(2) 入札保証金及び契約保証金 免除(3) 入札者に要求される事項 ①この一般競争に参加を希望する者は、封かんした入札書のほかに、当機構の交付する入札説明書に定める入札仕様書及び必要な証明書等を入札書の受領期限までに提出しなければならない。 また、入札者は、開札日の前日までの間において、入札仕様書及び必要な証明書等について、説明又は協議を求められた場合は、それに応じなければならない。 ②上記①の提出書類に基づき当該物品等の納入が可能な者であると判断した者を落札対象とする。 (4) 入札の無効 本公告に示した入札参加に必要な資格のない者のした入札及び入札の条件に違反した入札。 (5) 契約書作成の要否 要(6) 落札者の決定方法 予定価格の制限の範3/3囲内で最低価格をもって有効な入札を行った入札者を落札者とする。 (7) その他詳細は、入札説明書による。 ６ Summary(1) Official in charge of disbursement ofthe procuring entity ; Naoya MatsumotoDirector of , Financial Affairs andContract, Japan Atomic Energy Agency(2) Classification of the products to beprocured ; 24(3) Nature and quantity of the products tobe purchased ; Fabrication of irradiationbeamlines,1set(4) Delivery period ; By 18, February,2028(5) Delivery place ; Japan Atomic EnergyAgency (Appointed place)(6) Qualifications for participating in thetendering procedures ; Supplierseligible for participating in the proposedtender are those who shall ①not come underArticle 70 of the Cabinet Order concerningthe Budget, Auditing and Accounting,furthermore, minors, Person underConservatorship or Per son under Assistancethat obtained the consent necessary forconcluding a contract may be applicableunder cases of special reasons within thesaid clause, ②not come under Article 71the Cabinet Order concerning the Budget,Auditing and Accounting, ③have beenqualified through the qualifications forparticipating in tenders by Japan AtomicEnergy Agency, or through Singlequalification for every ministry andagency, ④ not be currently undersuspension of nomination by Director ofContract Department, Japan Atomic EnergyAgency(7) Time limit for tender ; 15：00 1，October, 2026(8) Contact point for the notice ; ContractSection 1, Financial Affairs and ContractDepartment , Japan Atomic Energy Agency,765-1, Funaishikawa Tokai-mura Naka–gunIbaraki-ken 319-1184 Japan. TEL080-9647-9846 1照射用ビームラインの製作仕 様 書2目 次１．一般仕様1.1 件名 ······························································· 41.2 概要・目的 ·························································· 41.3 契約範囲 ···························································· 41.3.1 契約範囲内 ······················································ 41.3.2 契約範囲外 ······················································ 41.4 納期 ······························································· 41.5 納入場所及び納入条件 ················································ 41.6 検収条件 ···························································· 51.7 保証 ······························································· 51.8 提出図書 ···························································· 51.9 支給品 ····························································· 61.10 貸与品 ····························································· 61.11 品質管理 ···························································· 71.12 適用法規・規程 ······················································ 71.13 機密保持 ···························································· 71.14 グリーン購入法の推進 ················································ 71.15 安全管理 ···························································· 71.16 協議 ······························································· 8２．技術仕様2.1 一般事項 ···························································· 82.1.1 会議打合せの開催 ················································ 82.1.2 従事者資格 ······················································ 92.2 各部仕様 ···························································· 92.2.1 基本仕様 ························································ 92.2.2 照射用ビームライン(H2)の製作仕様 ····························· 102.2.2.1 全体構成 ··················································· 102.2.2.2 既存ビームラインの撤去 ····································· 102.2.2.3 構成機器 ··················································· 1132.2.2.4 据付調整 ··················································· 322.2.3 照射用ビームライン(L1)の製作仕様 ····························· 332.2.3.1 全体構成 ··················································· 332.2.3.2 既存ビームラインの撤去 ····································· 332.2.3.3 構成機器 ··················································· 332.2.3.4 据付調整 ··················································· 602.3 試験検査 ··························································· 602.4 特記事項 ··························································· 614１．一般仕様1.1 件名照射用ビームラインの製作1.2 概要・目的本装置は、宇宙機用半導体の放射線エラー評価を目的とし、重イオンビーム照射試験を実施するための専用ビームライン装置である。 宇宙線環境を模擬したビーム照射を行い、半導体デバイスのシングルイベント効果(SEE)評価を高精度に実施することを目的とする。 本件では、高品質な照射を行うためのビームラインを製作し、据付調整を行うものとする。 1.3 契約範囲1.3.1 契約範囲内1) 照射用ビームライン(H2)の製作 1式2) 照射用ビームライン(L1)の製作 1式1.3.2 契約範囲外1) 「1.3.1 契約範囲内」記載の契約範囲内に記載なきもの1.4 納期分割納入とする1) 「1.3.1 契約範囲内 1) 照射用ビームライン(H2)の製作 1式」令和 9年 10月 29日2) 「1.3.1 契約範囲内 2) 照射用ビームライン(L1)の製作 1式」令和 10年 2月 18日 (最終納入)1.5 納入場所及び納入条件(1) 納入場所住所 茨城県那珂郡東海村大字白方2番地4日本原子力研究開発機構 原子力科学研究所タンデム加速器棟1) 「1.3.1 契約範囲内 1) 照射用ビームライン(H2)の製作 1式」第2重イオンターゲット室2) 「1.3.1 契約範囲内 2) 照射用ビームライン(L1)の製作 1式」軽イオンターゲット室5(2) 納入条件据付調整後渡し1.6 検収条件「1.5 納入場所及び納入条件」に示す納入場所に納入後、「2.3 試験検査」に定める実地試験検査並びに「1.8 提出書類」の合格をもって検収とする。 1.7 保証第2章に定める設計仕様及び機能要求を満たすこと。 1.8 提出書類図 書 名 提 出 時 期 部数 確認製作工程表製作設計図統括責任者届据付作業要領書緊急時連絡体制表従事者名簿リスクアセスメント安全日報KY・TBM試験検査要領書産業廃棄物管理票(マニフェスト)試験検査成績書完成図完成図書報告書その他、原子力機構が指示するもの契約後速やかに各製作着手前※確認後コピー2部提出作業開始2週間前まで作業開始2週間前まで作業開始2週間前まで作業開始2週間前まで作業開始2週間前まで日々作業開始前と終了後日々作業開始前と終了後検査着手前※確認後コピー2部提出発行後速やかに各納入時各納入時各納入時各納入時要求後可能な限り速やかに2部1部1部2部2部2部2部1部1部1部1部2部2部2部2部1式要要要要要要要要要要不要要要要要要(提出場所)原子力機構 原子力科学研究所 研究基盤技術部 加速器管理課 担当者61.9 支給品本件では、以下を支給する。 (1) 電気数量：1式支給場所：日本原子力研究開発機構 原子力科学研究所タンデム加速器棟 作業エリア支給時期：据付調整時、現地試験検査時、納入時支給方法：既設受電・分電設備から供給し支給(2) 圧縮空気数量：1式支給場所：日本原子力研究開発機構 原子力科学研究所タンデム加速器棟 作業エリア支給時期：据付調整時、現地試験検査時、納入時支給方法：既設圧縮空気配管から供給し支給(3) 冷却水数量：1式支給場所：日本原子力研究開発機構 原子力科学研究所タンデム加速器棟 作業エリア支給時期：据付調整時、現地試験検査時、納入時支給方法：既設冷却水配管から供給し支給(4) 窒素数量：1式支給場所：日本原子力研究開発機構 原子力科学研究所タンデム加速器棟 作業エリア支給時期：据付調整時、現地試験検査時、納入時支給方法：既設窒素配管から供給し支給1.10 貸与品本件では、以下を貸与する。 (1) 建家内床上操作式クレーン数量：1式引渡場所：日本原子力研究開発機構 原子力科学研究所7タンデム加速器棟 作業エリア引渡時期：既設品解体・撤去・移設時、据付調整時、納入時引渡方法：設備のブレーカー投入後、コントローラを貸与する。 その他：使用の一か月前までに申告すること。 1.11 品質管理本設備の製作に係る設計、製作、据付け等は、全ての工程において、以下の事項等について十分な品質管理を行うこととする。 ・管理体制・設計管理・外注管理・材料管理・工程管理・試験・検査管理・不適合管理・記録の保管・監査1.12 適用法規・規程原子力機構内諸規程1.13 機密保持受注者は、本業務の実施に当たり、知り得た情報を厳重に管理し、本業務遂行以外の目的で、受注者、下請会社等の作業員を除く第三者への開示又は提供を行ってはならない。 1.14 グリーン購入法の推進(1) 本契約において、グリーン購入法(国等による環境物品等の調達の推進等に関する法律)に適用する環境物品(事務用品、ＯＡ機器等)の採用が可能な場合は、これを採用するものとする。 (2) 本仕様に定める提出図書(納入印刷物)については、グリーン購入法の基本方針に定める「紙類」の基準を満たしたものであること。 1.15 安全管理(1) 一般安全管理8(ア) 作業計画に際し綿密かつ無理のない工程を組み、材料、労働安全対策等の準備を行い、作業の安全確保を最優先としつつ、迅速な進捗を図るものとする。 また、作業遂行上既設物の保護及び第三者への損害防止にも留意し、必要な措置を講ずるとともに、火災その他の事故防止に努めるものとする。 (イ) 作業現場の安全衛生管理は、法令に従い受注者の責任において自主的に行うこと。 (ウ) 受注者は、作業着手に先立ち原子力機構と安全について十分に打合せを行った後着手すること。 (エ) 受注者は、作業現場の見やすい位置に、現場責任者名及び連絡先等を表示すること。 (オ) 作業中は、常に整理整頓を心掛ける等、安全及び衛生面に十分留意すること。 (カ) 受注者は、本作業に使用する機器又は装置の中で地震等により安全を損なうおそれのあるものについては、転倒防止策等を施すこと。 (2) 放射線管理(ア) 受注者は、管理区域内で作業を行う場合は、原子力機構が定める放射線管理方法を遵守しなければならない。 (イ) 受注者は、本作業期間中、心身ともに健康で身体に外傷のない作業員を従事させること。 (ウ) 受注者は、受注後、監督者、放射線管理員及び作業員についての経歴、放射線作業等の経験について提出し、原子力機構の承認を得ること。 (エ) 本作業を開始する前に、受注側作業員は、原子力機構が行う保安教育を受けること。 ただし、放射線に関する知識は、受注者側で教育すること。 (オ) 放射線管理及び異常時の対策は、原子力機構の指示に従うこと。 1.16 協議本仕様書に記載されている事項及び本仕様書に記載のない事項について疑義が生じた場合は、原子力機構と協議の上、その決定に従うものとする｡２．技術仕様2.1 一般事項2.1.1 会議打合せの開催(1) 受注者は、受注後設計をする。 設計後の詳細については、原子力機構担当者が要求する会議打合せを行うこととする。 会議打ち合わせの方法等については原子力機構の指示に従うこと。 92.1.2 従事者資格受注者は、以下の資格を有した者を作業に従事させることとする。 (1) 据付調整時・電気工事士・クレーン運転士・玉掛け技能講習修了・JAEA現場責任者ライセンス・テールゲートリフターの操作特別教育修了2.2 各部仕様2.2.1 基本仕様製作する照射用ビームラインは、以下の基本仕様を満たすものとする。 (1) 既存L1ビームライン設備の解体、移設及び撤去を行うこと。 (2) 既存H2ビームライン設備の解体及び撤去を行うこと。 (3) 各真空機器及び駆動機器に対し制御系を備えること。 (4) 照射チャンバ内に駆動可能な試料ステージを取り付けること。 (5) 照射チャンバに試料アライメント用のレーザーを取り付けること。 (6) 真空チャンバ、フランジ、内包部品の真空壁に対する表面処理は、バフ研磨＋電解研磨を基本とする。 但し、構成部品毎に最適な表面処理を行うこと。 (7) 真空チャンバ及びダクトの大気側はガラスビーズ処理または当該処理相当以上の平滑化処理を行うこと。 (8) 真空壁の表面積は全放出ガス量に直接影響する。 そのためチャンバ全体を洗浄すること。 洗浄条件は、クラス100以下のクリーンルームで超純水による洗浄を行い、超純水浸漬工程終了時の超純水の比抵抗値を3MΩ・cm以上とすること。 実測データを提出書類に含めること。 (9) 各部組立時、真空に関わる溶接は全て真空内面からの溶接とする。 ただし、溶接器具の制約等により内部からの溶接が困難である場合は機構担当者と協議の上、溶接方法を決定する。 (10) ベローズはパーティクルが内部に侵入すると除去が困難である。 そのため洗浄後のヘリウムリーク試験および梱包についてはクラス1のクリーンルームで実施すること。 ・リーク試験および梱包に使用するガスについては高純度ガスを使用すること。 ・クリーン環境、使用高純度ガス純度については提出図書に含めること。 10(11) ビームラインダクトと試料移動ステージのステンレス部品は、脱ガスのための熱処理を行うこと。 脱ガス処理は加工後の真空部品に行い、以下の仕様を満たすこととする。 熱処理に関して、機構側担当者に確認を取った上で実施すること。 ・バルク中水素濃度低減のため、高真空中での熱処理を行うこと。 熱処理はポンプ等に油を使用しないドライな環境(オイルフリー)で行い、熱処理時の圧力は10-3Pa前半以下とすること。 真空面のバフ・電解研磨後の純水洗浄処理の不備により、脱ガス処理時に焼付き等の不具合が発生した場合は、修正もしくは再製作を行うこと。 ・熱処理温度、時間等の条件についてはバルク中水素濃度が1ppm未満になる条件を受注者の責任において決定すること。 熱処理時は全圧だけでなく、分圧も測定すること。 (12) 真空部におけるリークレートはヘリウムに対し1.0×10-10 Pa・m3/sec以下であること。 (13) 照射チャンバ部は、単体で大気開放状態から排気開始後30分以内に1.0×10-2 Pa以下に到達する性能を有すること。 (14) 各駆動設備及び真空制御装置は本施設の制御システムACCELLと互換性があり、遠隔自動制御が可能であること。 (15) 真空チャンバ、ビームライン及び付随する機器を支持する架台を製作すること。 (16) 支持架台はビームラインのアライメント及び固定が可能な構造であること。 (17) 製作物の全部品に対して加工・製作後、バリなどを除去すべく研磨処理を施すこと。 (18) 真空ポートは指示無き場合、ICF規格金属シール構造とすること。 (19) 機器の動作に必要な電力配線を敷設すること(配線ルート概略図を図１に示す)。 (20) 機器の動作に必要な圧空配管を敷設すること。 (配管ルート概略図を図２に示す)(21) 真空機器の窒素置換に必要な窒素配管を敷設すること。 (配管ルート概略図を図２に示す)(22) 据付調整後渡しとし、アライメント完了状態で納入すること。 (23) 放射線環境下において長期使用に耐える構造とすること。 2.2.2 照射用ビームライン(H2)の製作仕様2.2.2.1 全体構成照射用ビームライン(H2)の製作は以下の3分類により構成される(1) 既存ビームラインの撤去(2) 構成機器(3) 据付調整2.2.2.2 既存ビームラインの撤去11(1) 概要照射用ビームライン(H2)の設置場所には既存のビームライン設備が設置されているため、照射用ビームライン(H2)の設置に必要な範囲について、これの解体・撤去を行うものとする。 (2) 構造・仕様(ア)解体品の総重量は新規ビームラインを著しく上回らないものとする。 (イ)解体は指示無き場合、原則再使用可能な状態を保つこと。 (ウ)解体範囲は照射用ビームライン(H2)の接続境界となるフランジから下流6m以内のビームライン1式とし、付属設備、支持架台等をすべて含む。 (エ)撤去品は原子力科学研究所内の指定位置へ運搬を行うこと。 (オ)本作業により発生する廃棄物は、適切な方法により処理・処分すること。 2.2.2.3 構成機器照射用ビームライン(H2)の全体の構想図を図３に示す。 本構成における軸はビーム軸下流をZ＋、ビーム軸上流をZ-、鉛直上方をY＋、鉛直下方をY-、ビーム進行方向に対し水平右方向をX+、水平左方向をX-、と称する。 収納チャンバ及び取り付けポートの内外径は、原則両端もしくは片端に接続するICFフランジの標準サイズとする。 照射チャンバ、架台等の重量物は運搬時にクレーン等で吊り上げ可能な構造とし、安定に吊り上げるためのアイボルト等の吊具を適切な位置に備えること。 構成機器仕様については、目的が達成可能でありかつ、受注者と機構担当者において協議の上、合意が成り立つ範囲において変更可能とする。 (1) ビーム拡散ユニットH2(ア)ビーム拡散薄膜① ビーム拡散薄膜治具：長さ約250㎜、幅約30mmのアルミ板に20㎜の開口を約5箇所もうけ、厚さ0.5μ以下の金薄膜を取り付けることが可能な構造とすること。 ② 治具の接続：薄膜固定治具を作成し、脱着可能な方式で導入器と接続すること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ③ 薄膜本体：製作外とする(イ)取付け機構① 取付け方式：ICF152フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 (ウ)駆動機構12① 駆動方式：ステッピングモーター式直線導入器により任意の位置に挿入できる構造とする。 ② 真空境界：ベローズ式とする③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 動作精度：1mm以下⑤ 動作長：300mm以上ビーム拡散薄膜治具のY方向の全域がビーム軸上へ調整可能であり、かつ、ビーム通過部(Z軸を中心とする40㎜×40㎜)から完全に退避する動作長を確保すること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ⑥ 制御：制御系H2-Bにより任意位置への動作制御及び挿入位置のリードバックを行うこと。 (エ)前方アパーチャー① 開口：40㎜×40㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 (オ)真空排気システム① 主排気ポンプ1. ターボ分子ポンプ(340L/s以上)2. 取付け方式：ICF規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 3. 電源電圧：単相AC200V② 補助排気ポンプ1. ドライポンプ(250L/min以上、NeoDry15G同等品)2. 電源電圧：単相AC200V③ 低真空ラインバルブ1. 駆動方式：圧空動作型電磁弁式2. 取り付け位置：主排気ポンプ下流3. 信号出力：開閉状態信号が出力可能であること4. 電源電圧：制御系H2-Aの仕様に従うこと。 ④ 粗引きラインバルブ1. 駆動方式：手動(回転動作式)2. 取付けフランジ：(ア)高真空側ICF70フランジ(イ)低真空側KF40フランジ133. 取り付け位置：収納チャンバ⑤ 高真空ゲージ1. 方式：ピラニ＋コールドカソード一体型2. 測定レンジ：1×10-6Pa以下 ～ 大気圧3. 取付けフランジ：ICF70フランジ4. 取付け位置：収納チャンバ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること。 6. 電源電圧：制御系H2-Aの仕様に従うこと。 ⑥ 低真空ゲージ1. 方式：ピラニ2. 測定レンジ：約0.1Pa ～ 大気圧3. 取付け位置：低真空ライン4. 取付けフランジ：ICF70フランジまたはKF 40 フランジ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること。 6. 電源電圧：制御系H2-Aの仕様に従うこと。 ⑦ 低真空ライン1. KF40規格標準サイズのダクト又はベローズにより以下のフランジを接続すること。 (ア)主排気ポンプ低真空側(イ)低真空ラインバルブ(ウ)補助排気ポンプ(エ)低真空ゲージ(オ)粗引きバルブ2. 主としてKF40フランジによるクイックカップリング接続とする。 ただし、機器側のフランジがKF40でない場合、変換ニップル等による接続を行うこと。 ⑧ 制御：制御系H2-Aにより、各機器の動作、状態表示および真空インターロック制御を行うこと。 また、各機器の付属コントローラによるローカル制御が可能であること。 (カ)収納チャンバ① 形状：ICF規格クロス(ICF152×4ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約270mm④ 長さ(Y方向)：「(ウ)駆動機構」に示す動作長を確保する長さとする。 ⑤ 枝ポート1. 高真空ゲージ接続用ICF70ポート×１142. 粗引きラインバルブ接続用ICF70ポート×23. パージ用リークバルブ接続用 ICF70ポート×１(キ)変換フランジ① 形状：ICF70：1/4インチSUSチューブ×１(ク)リークバルブ① ベローズシールバルブ(スウェージロック製SS-4H相当)×１(2) 汎用ユニットH2(ア)アパーチャー① 開口：40㎜×40㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 ⑥ 数量：２(イ)真空排気システム① 主排気ポンプ1. ターボ分子ポンプ(340L/s以上)2. 取付け方式：ICF規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 3. 電源電圧：単相AC200V② 補助排気ポンプ1. ドライポンプ(250L/min以上、NeoDry15G同等品)2. 電源電圧：単相AC200V③ 低真空ラインバルブ1. 駆動方式：圧空動作型電磁弁式(電磁弁駆動電圧は制御系H2-Aの仕様に従う)2. 取り付け位置：主排気ポンプ下流3. 信号出力：開閉状態信号が出力可能であること4. 電源電圧：制御系H2-Aの仕様に従うこと。 ④ 粗引きラインバルブ1. 駆動方式：手動(回転動作式)2. 取付けフランジ：(ア)高真空側ICF70フランジ(イ)低真空側KF40フランジ3. 取り付け位置：収納チャンバ15⑤ 高真空ゲージ1. 方式：ピラニ＋コールドカソード一体型2. 測定レンジ：1×10-6Pa以下 ～ 大気圧3. 取付けフランジ：ICF70フランジ4. 取付け位置：収納チャンバ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系H2-Aの仕様に従うこと。 ⑥ 低真空ゲージ1. 方式：ピラニ2. 測定レンジ：約0.1Pa ～ 大気圧3. 取付け位置：低真空ライン4. 取付けフランジ：ICF70フランジまたはKF 40 フランジ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系H2-Aの仕様に従うこと。 ⑦ 低真空ライン1. KF40規格標準サイズのダクト又はベローズにより以下のフランジを接続すること。 (ア)主排気ポンプ低真空側(イ)低真空ラインバルブ(ウ)補助排気ポンプ(エ)低真空ゲージ(オ)粗引きバルブ2. 主としてKF40フランジによるクイックカップリング接続とする。 ただし、機器側のフランジがKF40でない場合、変換ニップル等による接続を行うこと。 ⑧ 制御：制御系H2-Aにより、各機器の動作、状態表示および真空インターロック制御を行うこと。 また、各機器の付属コントローラによるローカル制御が可能であること。 (ウ)収納チャンバ① 形状：ICF規格(ICF152×2ポート(Z方向)、ICF152×2ポート(Y＋方向)、ICF152×1ポート(Y-方向))② 材質：SUS304③ 長さ(Z方向)：約1400mm④ 枝ポート1. 高真空ゲージ接続用ICF70ポート×１2. 粗引きラインバルブ接続用ICF70ポート×1163. パージ用リークバルブ接続用 ICF70ポート×１(エ)ブランクフランジ① 形状：ICF152フランジ×２(オ)変換フランジ① 形状：ICF70：1/4インチSUSチューブ×１(カ)リークバルブ① ベローズシールバルブ(スウェージロック製SS-4H相当)×１(3) ビームビュワーユニットH2(ア)ビームビュワー本体① 発光面サイズ：直径約50mm、厚み約2mm② ビームガード：非検出部を前方アパーチャーより大きなサイズとし、ビームが通り抜ける隙間を作らない構造とする。 ③ 発光体取付け治具：発光体を交換できる構造とすること。 ④ 本体：想定される最大電力は10Wとし、これに耐える構造とすること。 ⑤ 材質1. 発光体：合成石英2. 発光体取付け治具：アルミニウムを主とする3. 駆動機構：SUS304を主とする(イ)取付け機構① 取付け方式：ICF152フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 (ウ)駆動機構① 駆動方式：圧空駆動型直線導入器によりIN、OUTを行う。 ② 真空境界：ベローズ式とする。 ③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 動作長：150mm程度、OUT時にはビュワー本体がビーム通過部(Z軸を中心とする40㎜×40㎜)から完全に退避する動作長を確保すること。 ⑤ 制御信号：制御系H2-Bにより、IN、OUT動作制御及び状態表示を行うこと。 (エ)前方アパーチャー① 開口：40㎜×40㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 17(オ)収納チャンバ① 形状：ICF規格ティー (ICF152×3ポート + ICF70×１ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約270mm④ 長さ(Y方向)：「(ウ)駆動機構」に示す動作長を確保する長さとする。 ⑤ 枝ポート1. ビューポート用ICF70ポート×１⑥ ビューポートフランジ1. ICF70フランジ：ビューポート×１(4) 電流測定ユニットH2(ア)ファラデーカップ① ビーム検出面サイズ：直径25mm程度② ビームガード：非検出部を前方アパーチャーより大きなサイズとし、ビームが通り抜ける隙間を作らない構造とする。 ③ 2次電子抑制器：最大－1500Vを印加可能な2次電子抑制電極を備え、1.0×10-3Pa以下の真空中で放電しない構造とすること。 ④ カップ本体：想定される最大電力は100Wとし、これに耐える構造とすること。 ビーム電流を受け止めてその電荷を出力するため、他の部品とは絶縁された構造とすること。 ⑤ 冷却機構：必要に応じて冷却機構を備えること。 ⑥ 材質：タンタル(カップ本体)及びSUS304(駆動機構、冷却機構)を主とする(イ)取付け機構① 取付け方式：ICF152フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 (ウ)駆動機構① 駆動方式：圧空動作型電磁弁式 直線導入器によりIN、OUTを行う。 ② 真空境界：ベローズ式とする③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 動作長：150mm程度、OUT時にはカップ本体がビーム通過部(Z軸を中心とする40㎜×40㎜)から完全に退避する動作長を確保すること。 ⑤ 制御：既存設備から出力されるAC115Vの配線と接続し、通電によりOUTとなる構造とすること。 ファラデーカップIN、OUTの状態に対応する接点信号出力を既存設備の制御系に接続し、モニター可能とすること。 (エ)前方アパーチャー18① 開口：40㎜×40㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする。 ⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 (オ)収納チャンバ① 形状：ICF規格クロス(ICF152×4ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約230mm④ 長さ(Y方向)：「(ウ)駆動機構」に示す動作長を確保すること。 (カ)真空境界信号端子① ビーム電流用：ビーム電流を読み出すためのBNC端子を取付けフランジに備え、カップ本体に接続すること。 ② 2次電子抑制器用：高電圧を印加するためのSHV端子を取付けフランジに備え、2次電子抑制器に接続すること。 (キ)ビーム電流信号処理器① 微小電流0.1ｎA～10μAを測定可能な電流積算器または電流ログアンプを備えること。 ② 制御：制御系H2-Bにより電流積算器または電流ログアンプのON、OFF操作、状態表示行うこと。 また制御系H2-Bによりビーム電流をモニター可能であること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 (ク)2次電子抑制器用高電圧電源① 出力：-1000V～0V、2mW以上② 電圧安定度：±0.1%以下、リップル数V以下③ 制御：制御系H2-Bにより電圧のON、OFF操作及び出力電圧設定を行うこと。 ④ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 (5) ビーム診断ユニットH2(ア)直線導入器① 駆動方式：ステッピングモーター式直線導入器により任意の位置に挿入できる構造とする。 ② 真空境界：ベローズ式とする③ 取付けフランジ：ICF152フランジ④ 動作精度：1mm以下19⑤ 動作長：150mm以上⑥ 制御信号：制御系H2-Bにより、任意位置への動作制御及び挿入位置のリードバックを行うこと。 ⑦ 測定信号端子：取付けフランジに信号線フィードスルーを設けること。 1. BNC端子×32. HVS端子×1⑧ 数量：4式(イ)前方アパーチャー① 開口：40㎜×40㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 ⑥ 数量：1(ウ)収納チャンバ① 形状：直方体型(直方体部寸法：X:約300mm、Y:約300mm、Z:約840mm)② 材質：SUS304を主とする。 ③ ポート1. ビームライン接続用 ICF152ポート×22. 真空排気ポートICF203ポート×１3. 高真空ゲージ接続用ICF70ポート×14. 粗引きラインバルブ接続用ICF70ポート×15. 汎用ポート ICF70ポート×26. 直線導入器取付け用ICF152ポート×４7. 信号用ポート ICF203×28. ビューポートICF70ポート×69. パージ用リークバルブ接続用 ICF70ポート×１④ ビューポートフランジ1. ICF70ビューポートフランジ(遮光カバー付属)×6⑤ 信号用フランジ1. ICF 203フランジ：多ピン100pin×2端子以上2. ICF 203フランジ：BNC×4端子以上、SHV×4端子以上⑥ 変換フランジ1. 形状：ICF70：1/4インチSUSチューブ×１⑦ パージバルブ1. ベローズシールバルブ(スウェージロック製SS-4H相当)×１20(エ)真空排気システム① 主排気ポンプ1. ターボ分子ポンプ(340L/s以上)2. 取付け方式：ICF規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 3. 電源電圧：単相AC200V② 補助排気ポンプ1. ドライポンプ(250L/min以上、NeoDry15G同等品)2. 電源電圧：単相AC200V③ 低真空ラインバルブ1. 駆動方式：圧空動作型電磁弁式(電磁弁駆動電圧は制御系H2-Aの仕様に従う)2. 取り付け位置：主排気ポンプ下流3. 信号出力：開閉状態信号が出力可能であること4. 電源電圧：制御系H2-Aの仕様に従うこと。 ④ 粗引きラインバルブ1. 駆動方式：手動(回転動作式)2. 取付けフランジ：(ア)高真空側ICF70フランジ(イ)低真空側KF40フランジ3. 取り付け位置：収納チャンバ⑤ 高真空ゲージ1. 方式：ピラニ＋コールドカソード一体型2. 測定レンジ：1×10-6Pa以下 ～ 大気圧3. 取付けフランジ：ICF70フランジ4. 取付け位置：収納チャンバ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系H2-Aの仕様に従うこと。 ⑥ 低真空ゲージ1. 方式：ピラニ2. 測定レンジ：約0.1Pa ～ 大気圧3. 取付け位置：低真空ライン4. 取付けフランジ：ICF70フランジまたはKF 40 フランジ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系H2-Aの仕様に従うこと。 ⑦ 低真空ライン211. KF40規格標準サイズのダクト又はベローズにより以下のフランジを接続すること。 (ア)主排気ポンプ低真空側(イ)低真空ラインバルブ(ウ)補助排気ポンプ(エ)低真空ゲージ(オ)粗引きバルブ2. 主としてKF40フランジによるクイックカップリング接続とする。 ただし、機器側のフランジがKF40でない場合、変換ニップル等による接続を行うこと。 ⑧ 制御：制御系H2-Aにより、各機器の動作、状態表示および真空インターロック制御を行うこと。 また、各機器の付属コントローラによるローカル制御が可能であること。 (6) ビームラインバルブH2(ア)方式：ゲートバルブ(イ)サイズ：ICF152フランジ接続サイズ(ウ)駆動方式：圧空動作型電磁弁式(エ)電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 (オ)制御信号：開閉操作及び① 最上流の1台を既存の制御系に接続する。 ② 最下流の1台を制御系H2-Bに接続する。 ③ その他のバルブは制御系H2-Aに接続する。 (カ)数量：４(7) ベローズH2(ア)ベローズ種類：成形ベローズ(イ)フランジサイズ：ICF152フランジ(ウ)材質：ステンレス製(SUS316L)仕様：自然長110㎜。 ばね定数：17.65N/mm以下。 軸直角方向ばね反力132.4N以下(軸直角変位量3.5mm)伸長サポート付(ねじれ吸収用長孔穴付き)基本仕様に準じて製作したエビデンスを提出図書に含めること。 (エ)数量：機器の据付調整が容易となるよう、適切な数量とすること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 22(8) 単管H2(ア)フランジサイズ：ICF152フランジ(イ)材質：SUS304(ウ)長さ及び数量：機器の据付調整が容易となるよう、適切な長さ及び数量とすること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 (9) 照射チャンバH2(ア)概要：半導体照射用チャンバとして、真空機器(真空ポンプ、圧力計、バルブ等)、駆動システム付き試料台、試料台アライメント用レーザー、各種フランジを取り付け可能でかつ支持架台で支持可能な構造であること。 さらに、照射チャンバ内部の圧力は、超高真空となる仕様・構造となるよう設計し製作するものである。 (イ)材質：主としてSUS304とする(ウ)本体構造・仕様① 照射チャンバは、X方向の円筒形状のチャンバとする。 ② 照射チャンバのX方向円筒部内部の有効寸法は、直径約800mm × 長さ約1100mmとする。 ③ 照射チャンバの真空排気を行った際に、大気圧や自重による照射チャンバのたわみ量は全ての面において0.1mm以下である構造とすること。 ただし、移動ステージ及び位置決めレーザーへの影響が本たわみによる影響と同等以上に保てる場合はこの限りではない。 ④ 照射チャンバの設計後、強度計算を行い、たわみ軽減のために板の厚みなどを変更する場合には、新たな仕様を提案し、詳細については協議の上決定する。 ⑤ 照射チャンバ内部に取り付ける部品は空気溜りが出来ない構造とする。 ⑥ 照射チャンバ内部に取り付けるネジ及びボルト類は空気溜りができないよう、空気抜き穴が空いているものを使用する。 ⑦ 大気開放状態から廃棄開始後30分以内に1.0×10-2Pa以下に到達する性能を有すること。 (エ)構想図① 図３に示す(オ)ポート構成ポートフランジの締結用ボルト穴は、基本的には貫通穴を採用すること。 しかし、締結が困難な箇所等はタップ穴とする。 23ポート長は指示無き場合ボルトナットで固定が可能である範囲で極力短く設定すること。 ICF253以上のサイズでかつ鉛直方向以外のポートフランジについては取付けの際にフランジ荷重を支え、位置合わせが容易となるようサポートを設ける。 照射チャンバ及び取り付けポートの内外径は、原則両端もしくは片端に接続するICF規格フランジの標準サイズとする。 大径Ｏリングシールを有する開き戸用ポートは、Ｏリングが容易に脱落しない様に脱落防止の構造を有すること。 照射チャンバの詳細な構造や寸法、真空ポートの取り付け位置は、設計後担当者と協議の上、決定する。 構成品の数量については、受注者と機構担当者において協議の上、合意が成り立つ範囲において変更ができるものとする。 ① チャンバ側面ポート(X方向端面)1. フランジ直径約900mm(Oリングシール)×２2. ヒンジ付きの水平方向の開き戸式とする。 ヒンジ部は摩擦を抑える機構とし、手動で平滑に動かすことが可能であること。 開位置を保持できる半固定型とし、挟み込み防止のためのストッパーを設けること。 閉時に無理なく締結具で固定できる位置となること。 ③ チャンバ上流ポート(Z-方向)1. ICF152ポート×１④ 真空排気ポート1. ICF253ポート×22. ICF70ポート×4⑤ 信号ポート1. ICF305ポート×12. ICF203ポート×13. ICF152ポート×64. ICF114ポート×8⑥ 水平位置決めラインレーザー用ポート241. ICF70以上ポート×１(チャンバ中心位置からX方向に±40mm以上のラインが表示可能であること)⑦ 鉛直位置決めラインレーザー用ポート1. ICF70以上ポート×１(チャンバ中心位置からY方向に±40mm以上のラインが表示可能であること)⑧ 位置決めスポットレーザー用ポート1. ICF70ポート×２⑨ ビューポート(遮光カバー付属)1. ICF70ポート×12. ICF114ポート×1⑩ パージ用リークバルブ接続用1. ICF70ポート×１(カ)付属フランジ変換フランジの構造や寸法、各部品の材質は、設計後担当者と協議の上、決定する。 フランジを取り付ける位置は、設計後担当者と協議の上、決定する。 ICF152以上のサイズのフランジについては持ち手を付けること。 ① ビューポートフランジ(遮光カバー付属)1. ICF 152フランジ：ビューポート×22. ICF 114フランジ：ビューポート×13. ICF 70フランジ：ビューポート×5② 信号フランジ1. ICF 152フランジ：多ピン100pin×２端子×22. ICF 152フランジ：BNC×８端子×13. ICF 152フランジ：SHV×４端子×１4. ICF 152フランジ：LAN×２端子＋USB×２端子 ×15. ICF 203フランジ：ステージ制御信号用×１③ ブランクフランジ1. ICF 70フランジ：ブランク×42. ICF 114フランジ：ブランク×83. ICF 152フランジ：ブランク×14. ICF 305フランジ：ブランク×1④ 変換フランジ251. 形状：ICF70：1/4インチSUSチューブ×１(キ)位置決めレーザー① 水平位置決めラインレーザー1. 出力：0.1mW以上2. 線幅：試料表面にて3㎜以下であること。 3. 水平ライン精度：0.5度以下であること。 4. 表示範囲：チャンバ中心位置からX方向に±50mm以上のラインが表示可能であること。 5. 取付け：調整機能付き固定台を備え、使用者にて操作調整可能であること。 6. 数量：１② 鉛直位置決めラインレーザー1. 出力：0.1mW以上2. 線幅：試料表面にて3㎜以下であること。 3. 鉛直ライン精度：0.5度以下であること。 4. 表示範囲：チャンバ中心位置からY方向に±50mm以上のラインが表示可能であること。 5. 取付け：調整機能付き固定台を備え、使用者にて操作調整可能であること。 6. 数量：１③ 位置決めスポットレーザー及び調整台1. 出力：0.1mW以上2. スポットサイズ：試料表面にて線径1.5㎜以下であること。 3. 表示範囲：チャンバ中心位置からXY平面にて±50mm×±50mm以上の範囲に光点調節が可能であること。 4. 取付け：調整機能付き固定台を備え、使用者にて操作調整可能であること。 5. 数量：２(ク)真空排気システム① 真空仕切りバルブ1. 取付けフランジ：ICF253フランジ(ア)主排気ポンプの性能を損なわないサイズとすること。 2. バルブ方式：ゲートバルブ3. 駆動方式：圧空動作型電磁弁式264. 電源電圧：制御系H2-B仕様に従うこと。 5. 取付け箇所：主排気ポンプ吸気側② 主排気ポンプ1. ターボ分子ポンプ(1000L/s以上)2. 取付け方式：ターボ分子ポンプフランジの締結によること3. 電源電圧：単相AC200V4. 数量：2③ 補助排気ポンプ1. ドライポンプ(500L/min以上、NeoDry相当品)2. 電源電圧：単相AC200V3. 排気能力及び数量：性能を達成可能な容量・個数とし、設計後担当者と協議の上決定する。 ④ 低真空ラインバルブ1. 駆動方式：圧空動作型電磁弁式(電磁弁駆動電圧は制御系H2-Bの仕様に従う)2. 取り付け位置：主排気ポンプ下流3. 信号出力：開閉状態信号が出力可能であること4. 電源電圧：制御系H2-Bに従う⑤ 粗引きラインバルブ1. 駆動方式：手動(回転動作式)2. 取付けフランジ：(イ)高真空側ICF70フランジ(ウ)低真空側KF40フランジ3. 取り付け位置：照射チャンバ4. 数量：設計後担当者と協議の上、決定する。 ⑥ 高真空ゲージ1. 方式：ピラニ＋コールドカソード一体型2. 測定レンジ：1×10-6Pa以下 ～ 大気圧3. 取付けフランジ：ICF70フランジ4. 取付け位置：収納チャンバ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系H2-Bに従う⑦ 低真空ゲージ1. 方式：ピラニ2. 測定レンジ：約0.1Pa ～ 大気圧3. 取付け位置：低真空ライン274. 取付けフランジ：ICF70フランジまたはKF 40 フランジ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系H2-Bの仕様に従うこと。 ⑧ パージバルブ1. ベローズシールバルブ(スウェージロック製SS-4H相当)×１⑨ 低真空ライン1. KF40規格標準サイズのダクト又はベローズにより以下のフランジを接続すること。 (ア)主排気ポンプ低真空側(イ)低真空ラインバルブ(ウ)補助排気ポンプ(エ)低真空ゲージ(オ)粗引きバルブ2. 主としてKF40フランジによるクイックカップリング接続とする。 ただし、機器側のフランジがKF40でない場合、変換ニップル等による接続を行うこと。 ⑩ 制御：制御系H2-Bにより、各機器の動作、状態表示および真空インターロック制御を行うこと。 また、各機器の付属コントローラによるローカル制御が可能であること。 (ケ)試料移動ステージ① 動作軸及び動作範囲1. X：±100mm以上(水平)2. Y：±100mm以上(鉛直)② 位置決め精度XY：10µm以下③ 真空仕様(低脱ガス)型④ 制御：制御系H2-Bにより動作制御、状態表示を行う。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ⑤ ステージ架台：アライメント機構付きとする。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ⑥ 通電試料取り付けコネクタ：通電及び脱着が容易となる取り付けコネクタをそなえること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 (10) 制御系H2制御系の詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 28(ア)H2-A系統① 制御対象：チャンバ直前のビームラインバルブより上流に位置する照射チャンバ側の真空機器1. ビームラインバルブ(ただし、最上流のビームラインバルブを除く)2. ビーム拡散ユニットにおける真空排気システム3. 汎用ユニットにおける真空排気システム4. ビーム診断ユニットにおける真空排気システム② 制御内容：1. 各真空機器の動作(ア)排気ポンプの動作及び停止(イ)バルブ操作2. 真空インターロック連動制御(ア)高真空側真空が悪化した場合① 3×10-３Pa以上の場合1. 検知部前後のビームラインバルブ閉② 100Pa以上の場合1. 検知部直近の主排気ポンプの停止(イ)低真空側真空が悪化した場合① 主排気ポンプの背圧限度以上の場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブの閉(ウ)排気ポンプのエラーが出た場合① 主排気ポンプのエラーの場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブの閉② 補助排気ポンプのエラーの場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブ閉(エ)主排気ポンプ動作中に非推奨操作があった場合① 低真空ラインバルブが閉となった場合1. 主排気ポンプの停止② 補助排気ポンプが停止された場合1. 主排気ポンプの停止292. 低真空ラインバルブ閉③ 開動作させようとするビームラインバルブの前後差圧が一定値(動作可能差圧)を超える場合1. ビームラインバルブの開操作不可④ 開動作させようとするビームラインバルブの前後の真空度のいずれかが100Pa以上の場合1. ビームラインバルブの開操作不可(オ)インターロックのバイパス機能① 真空立ち上げ時における一部バイパス② 全インターロックのバイパス詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 出力電圧：各機器の動作電圧及び制御電圧を出力する。 ⑤ 制御システム1. 数量：1式詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ⑥ 操作・表示盤1. 操作方法：アナログスイッチ式操作盤2. 表示内容：真空機器状態表示、真空度、アラーム表示3. 表示方法(カ)LEDインジケーター(キ)ディスプレイ表示(真空度)詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 4. 数量：1式(イ)H2-B系統① 制御対象：照射チャンバ直前のビームラインを含み照射チャンバ側の真空機器、試料ステージ、及び直線導入器により動作する機器(ただし最上流の電流測定ユニットを除く)1. 電流測定ユニットH2-Bにおける電流測定器2. 照射チャンバ直前のビームラインバルブ3. 照射チャンバの真空排気システム4. 照射チャンバの試料ステージ② 制御内容：1. 各真空機器の動作(ア)排気ポンプの動作及び停止30(イ)バルブ操作2. 真空インターロック連動制御(ア)高真空側真空が悪化した場合① 3×10-３Pa以上の場合1. 検知部上流のビームラインバルブ閉② 1000Pa以上の場合1. 主排気ポンプの停止(イ)低真空側真空が悪化した場合① 主排気ポンプの背圧限度以上の場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブの閉(ウ)排気ポンプのエラーが出た場合① 主排気ポンプのエラーの場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブの閉② 補助排気ポンプのエラーの場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブ閉(エ)主排気ポンプ動作中に非推奨操作があった場合① 低真空ラインバルブが閉となった場合1. 主排気ポンプの停止② 補助排気ポンプが停止された場合1. 主排気ポンプの停止2. 低真空ラインバルブ閉③ 開動作させようとするビームラインバルブの前後差圧が一定値(動作可能差圧)を超える場合1. ビームラインバルブの開操作不可④ 開動作させようとするビームラインバルブの前後の真空度のいずれかが100Pa以上の場合1. ビームラインバルブの開操作不可(オ)インターロックのバイパス機能① 真空立ち上げ時における一部バイパス② 全インターロックのバイパス313. 制御対象機器の動作4. ビーム電流読み出し(電流等の換算値の表示行う)詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 出力電圧：各機器の動作電圧及び制御電圧を出力する。 ⑤ 制御システム1. 数量：1式⑥ 操作・表示盤1. 操作方法：モニター表示およびモニター上での操作を可能とすること。 ただし、真空計操作と測定系操作は明確に操作範囲の分離を行い、表示やフールプルーフを設け誤操作防止に努めること。 2. 表示方法：制御系ラックにマウントし、視認性の良好なディスプレイを採用すること。 3. 表示内容：ビーム電流表示、各機器状態表示、真空度、アラーム表示、各設定値。 4. 遠隔通信方式：制御室への通信はLANによるものとする。 必要なLANルーター、室内配線敷設を行うこと。 (ターゲット室から制御室までのLANの敷設は契約範囲外とする)5. 数量：2(ビームライン現場用、制御室用)(11) 支持架台H2架台の詳細な構造や寸法は設計後、担当者と協議の上決定する。 (ア)照射チャンバ固定架台① 荷重を十分に支える構造とすること。 ② XYZ方向の押しネジにより、ビームラインのアライメントを行うための機構を設けること。 調整幅は各軸について±20mm以上とする。 ③ 主材を鉄とするときは錆止め及び焼付塗装を行うこと。 ④ 支持架台の下部に、移動用タイヤを取り付けること⑤ アンカー固定を行うこと。 ⑥ ビームライン高さ1450mmにチャンバ中心を調整できること(イ)ビームライン固定架台(照射チャンバ部を除く)① 荷重を十分に支える構造とすること。 ② 主材を鉄とするときは錆止め及び焼付塗装を行うこと。 ③ アンカー固定を行うこと。 ④ ビームラインサポート1. 固定架台上にZ方向に移動可能なビームラインサポートを設けるこ32と。 2. 固定架台に対しボルトで固定する構造とすること。 3. XY方向4か所の押しネジにより、ビームラインのアライメントを行うための機構を設けること。 調整幅は±20mm以上とする。 4. 数量：ビームラインを十分に固定し、ベローズに負担がかからない間隔及び配置で適切な数量を設けること。 5. 材質：主としてアルミニウムとする。 ⑤ サポートと合わせてビームライン高1450にダクト中心を調整できること。 ⑥ ビームラインサポートを用いずに固定する収納チャンバについてはビームライン高さ1450mmに収納チャンバ中心を調整できること⑦ ケーブル収納機能付きであること。 (ウ)各機器の支持架台① ビームラインダクトで支持することが推奨されない重量となる機器については専用の架台を設けること。 ② アンカー固定または固定架台へボルト等により結合させること。 ③ 可能な限りビームライン下部に収めること。 (エ)制御系ラック１① 19インチ規格ラックとする。 ② 制御系を固定できるものとする③ アンカー固定または固定架台へボルト等により結合させること。 (オ)制御系ラック２① 19インチ規格ラックとする。 ② 制御系の内(操作・表示盤)を固定できるものとする③ 転倒防止対策を施すこと。 2.2.2.4 据付調整(1) 範囲：「2.2.3.3 構成機器」に含まれる機器(2) 構造・形状・仕様：(ア)据付調整を行う際は、既設の機器やケーブルラックなどと干渉がないように据付調整をする。 (イ)機器を床面に固定するためのアンカー打設作業を行う際は、防塵マスクを着用の上、HEPAフィルタ付き掃除機を使用し粉塵を吸引しながら実施する。 (ウ)ビームラインの据え付け後、アライメント作業を行うこと。 アライメント作業にはセオドライトやオートレベラー等の光学測定装置を用いて行い、据付精度は330.5mm以下を実現すること。 (3) 数量：1式2.2.3 照射用ビームライン(L1)の製作仕様2.2.3.1 全体構成照射用ビームライン(L1)の製作は以下の3分類により構成される(1) 既存ビームラインの撤去及び移設(2) 構成機器(3) 据付調整2.2.3.2 既存ビームラインの撤去及び移設(1) 概要照射用ビームライン(L1)の設置場所には既存のビームライン設備が設置されているため、照射用ビームライン(L1)の設置に必要な範囲について、これの解体・撤去を行い、再使用品について移設を行うものとする。 (2) 構造・仕様(ア)解体品の総重量は新規ビームラインを著しく上回らないものとする。 (イ)解体は指示無き場合、原則再使用可能な状態を保つこと。 (ウ)解体範囲は照射用ビームライン(L1)の接続境界となるフランジから下流10m以内のビームライン1式とし、付属設備、支持架台等をすべて含む。 (エ)ビームラインの移設先はタンデム加速器棟の照射ビームラインとする。 (オ)移設するビームラインの据付調整は「2.2.3.4据付調整 (2)構造・形状・仕様」に準ずる。 (カ)その他撤去品は原子力科学研究所内の指定位置へ運搬を行うこと。 (キ)本作業により発生する廃棄物は、適切な方法により処理・処分すること。 2.2.3.3 構成機器照射用ビームライン(L1)の全体の構想図を図４に示す。 本構成における軸はビーム軸下流をZ＋、ビーム軸上流をZ-、鉛直上方をY＋、鉛直下方をY-、ビーム進行方向に対し水平右方向をX+、水平左方向をX-、と称する。 収納チャンバ及び取り付けポートの内外径は、原則両端もしくは片端に接続するICFフランジの標準サイズとする。 照射チャンバ、架台等の重量物は運搬時にクレーン等で吊り上げ可能な構造とし、安定に吊り上げるためのアイボルト等の吊具を適切な位置に備えること。 構成機器仕様については、目的が達成可能でありかつ、受注者と機構担当者において協議の上、合意が成り立つ範囲において変更可能とする。 34(1) 電流測定ユニットL1-A(ア)ファラデーカップ① ビーム検出面サイズ：直径25mm程度② ビームガード：非検出部を前方アパーチャーより大きなサイズとし、ビームが通り抜ける隙間を作らない構造とする。 ③ 2次電子抑制器：最大－1500Vを印加可能な2次電子抑制電極を備え、1.0×10-3Pa以下の真空中で放電しない構造とすること。 ④ カップ本体：想定される最大電力は100Wとし、これに耐える構造とすること。 ビーム電流を受け止めてその電荷を出力するため、他の部品とは絶縁された構造とすること。 ⑤ 冷却機構：必要に応じて冷却機構を備えること。 ⑥ 材質：タンタル(カップ本体)及びSUS304(駆動機構、冷却機構)を主とする(イ)取付け機構① 取付け方式：ICF152規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 (ウ)駆動機構① 駆動方式：圧空動作型電磁弁式 直線導入器によりIN、OUTを行う。 ② 真空境界：ベローズ式とする③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 動作長：150mm程度、OUT時にはカップ本体がビーム通過部(Z軸を中心とする55㎜×55㎜)から完全に退避する動作長を確保すること。 ⑤ 制御：既存設備から出力されるAC115Vの配線と接続し、通電によりOUTとなる構造とすること。 ファラデーカップIN、OUTの状態に対応する接点信号出力を既存設備の制御系に接続し、モニター可能とすること。 (エ)前方アパーチャー① 開口：55㎜×55㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする。 ⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 (オ)収納チャンバ① 形状：ICF規格クロス(ICF152×3ポート、NEC規格フランジ×１ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約230mm④ 長さ(Y方向)：「(ウ)駆動機構」に示す動作長を確保すること。 35(カ)真空境界信号端子① ビーム電流用：ビーム電流を読み出すためのBNC端子を取付けフランジに備え、カップ本体に接続すること。 ② 2次電子抑制器用：高電圧を印加するためのSHV端子を取付けフランジに備え、2次電子抑制器に接続すること。 (2) ビーム拡散ユニットL1(ア)ビーム拡散薄膜① ビーム拡散薄膜治具：長さ約250㎜、幅約30mmのアルミ板に20㎜の開口を5箇所もうけ、薄膜を取り付けることが可能な構造とすること。 ② 治具の接続：薄膜固定治具を作成し、脱着可能な方式で導入器と接続すること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ③ 薄膜本体：製作外とする(イ)取付け機構① 取付け方式：ICF152フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 (ウ)駆動機構① 駆動方式：ステッピングモーター式直線導入器により任意の位置に挿入できる構造とする。 ② 真空境界：ベローズ式とする③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 動作精度：1mm以下⑤ 動作長：300mm以上ビーム拡散薄膜治具のY方向の全域がビーム軸上へ調整可能であり、かつ、ビーム通過部(Z軸を中心とする55㎜×55㎜)から完全に退避する動作長を確保すること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ⑥ 制御：制御系L1-Bにより任意位置への動作制御及び挿入位置のリードバックを行うこと。 (エ)前方アパーチャー① 開口：55㎜×55㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 (オ)真空排気システム36① 主排気ポンプ1. ターボ分子ポンプ(340L/s以上)2. 取付け方式：ICF規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 3. 電源電圧：単相AC200V② 補助排気ポンプ1. ドライポンプ(250L/min以上、NeoDry15G同等品)2. 電源電圧：単相AC200V③ 低真空ラインバルブ1. 駆動方式：圧空動作型電磁弁式2. 取り付け位置：主排気ポンプ下流3. 信号出力：開閉状態信号が出力可能であること4. 電源電圧：制御系L1-Aの仕様に従うこと。 ④ 粗引きラインバルブ1. 駆動方式：手動(回転動作式)2. 取付けフランジ：(ア)高真空側ICF70フランジ(イ)低真空側KF40フランジ3. 取り付け位置：収納チャンバ⑤ 高真空ゲージ1. 方式：ピラニ＋コールドカソード一体型2. 測定レンジ：1×10-6Pa以下 ～ 大気圧3. 取付けフランジ：ICF70フランジ4. 取付け位置：収納チャンバ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること。 6. 電源電圧：制御系L1-Aの仕様に従うこと。 ⑥ 低真空ゲージ1. 方式：ピラニ2. 測定レンジ：約0.1Pa ～ 大気圧3. 取付け位置：低真空ライン4. 取付けフランジ：ICF70フランジまたはKF 40 フランジ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること。 6. 電源電圧：制御系L1-Aの仕様に従うこと。 ⑦ 低真空ライン1. KF40規格標準サイズのダクト又はベローズにより以下のフランジを接続すること。 37(ア)主排気ポンプ低真空側(イ)低真空ラインバルブ(ア)補助排気ポンプ(イ)低真空ゲージ(ウ)粗引きバルブ2. 主としてKF40フランジによるクイックカップリング接続とする。 ただし、機器側のフランジがKF40でない場合、変換ニップル等による接続を行うこと。 ⑧ 制御：制御系L1-Aにより、各機器の動作、状態表示および真空インターロック制御を行うこと。 また、各機器の付属コントローラによるローカル制御が可能であること。 (カ)収納チャンバ① 形状：ICF規格クロス(ICF152×4ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約270mm④ 長さ(Y方向)：「(ウ)駆動機構」に示す動作長を確保する長さとする。 ⑤ 枝ポート1. 高真空ゲージ接続用ICF70ポート×１2. 粗引きラインバルブ接続用ICF70ポート×13. パージ用リークバルブ接続用 ICF70ポート×１(キ)変換フランジ① 形状：ICF70：1/4インチSUSチューブ×１(ク)パージバルブ① ベローズシールバルブ(スウェージロック製SS-4H相当)×１(3) 電流測定ユニットL1-B(ア)ファラデーカップ① ビーム検出面サイズ：直径25mm程度② ビームガード：非検出部を前方アパーチャーより大きなサイズとし、ビームが通り抜ける隙間を作らない構造とする。 ③ 2次電子抑制器：最大－1500Vを印加可能な2次電子抑制電極を備え、1.0×10-3Pa以下の真空中で放電しない構造とすること。 ④ カップ本体：想定される最大電力は10Wとし、これに耐える構造とすること。 ビーム電流を受け止めてその電荷を出力するため、他の部品とは絶縁された構造とすること。 ⑤ 冷却機構：必要に応じて冷却機構を備えること。 38⑥ 材質：タンタル(カップ本体)及びSUS304(駆動機構、冷却機構)を主とする(イ)取付け機構① 取付け方式：ICF152規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 (ウ)駆動機構① 駆動方式：圧空駆動型直線導入器によりIN、OUTを行う。 ② 真空境界：ベローズ式とする③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 動作長：150mm程度、OUT時にはカップ本体がビーム通過部(Z軸を中心とする55㎜×55㎜)から完全に退避する動作長を確保すること。 ⑤ 制御：制御系L1-Bに接続により、IN、OUT動作及び状態表示を行うこと。 (エ)前方アパーチャー① 開口：55㎜×55㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 (オ)収納チャンバ① 形状：ICF規格ティー(ICF152×3ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約270mm④ 長さ(Y方向)：「(ウ)駆動機構」に示す動作長を確保する長さとする。 (カ)真空境界信号端子① ビーム電流用：ビーム電流を読み出すためのBNC端子を取付けフランジに備え、カップ本体に接続すること。 ② 2次電子抑制器用：高電圧を印加するためのSHV端子を取付けフランジに備え、2次電子抑制器に接続すること(キ)ビーム電流信号処理器① 微小電流0.1ｎA～10μAを測定可能な電流積算器または電流ログアンプを備えること。 ② 制御：制御系L1-Bにより電流積算器または電流ログアンプのON、OFF操作、状態表示を行うこと。 また制御系L1-Bによりビーム電流表示を行うこと。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 (ク)2次電子抑制器用高電圧電源39① 出力：-1000V～0V、2mW以上② 電圧安定度：±0.1%以下、リップル数V以下③ 制御：制御系L1-Bにより電圧のON、OFF操作及び出力電圧設定を行うこと。 ④ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 (4) 汎用ユニットL1(ア)アパーチャー① 開口：55㎜×55㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 ⑥ 数量：２(イ)真空排気システム① 主排気ポンプ1. ターボ分子ポンプ(340L/s以上)2. 取付け方式：ICF規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 3. 電源電圧：単相AC200V② 補助排気ポンプ1. ドライポンプ(250L/min以上、NeoDry15G同等品)2. 電源電圧：単相AC200V③ 低真空ラインバルブ1. 駆動方式：圧空動作型電磁弁式(電磁弁駆動電圧は制御系L1-Aの仕様に従う)2. 取り付け位置：主排気ポンプ下流3. 信号出力：開閉状態信号が出力可能であること4. 電源電圧：制御系L1-Aの仕様に従うこと。 ④ 粗引きラインバルブ1. 駆動方式：手動(回転動作式)2. 取付けフランジ：(ア)高真空側ICF70フランジ(イ)低真空側KF40フランジ3. 取り付け位置：収納チャンバ⑤ 高真空ゲージ401. 方式：ピラニ＋コールドカソード一体型2. 測定レンジ：1×10-6Pa以下 ～ 大気圧3. 取付けフランジ：ICF70フランジ4. 取付け位置：収納チャンバ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系L1-Aの仕様に従うこと。 ⑥ 低真空ゲージ1. 方式：ピラニ2. 測定レンジ：約0.1Pa ～ 大気圧3. 取付け位置：低真空ライン4. 取付けフランジ：ICF70フランジまたはKF 40 フランジ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系L1-Aの仕様に従うこと。 ⑦ 低真空ライン1. KF40規格標準サイズのダクト又はベローズにより以下のフランジを接続すること。 (ア)主排気ポンプ低真空側(イ)低真空ラインバルブ(ウ)補助排気ポンプ(エ)低真空ゲージ(オ)粗引きバルブ2. 主としてKF40フランジによるクイックカップリング接続とする。 ただし、機器側のフランジがKF40でない場合、変換ニップル等による接続を行うこと。 ⑧ 制御：制御系L1-Aにより、各機器の動作、状態表示および真空インターロック制御を行うこと。 また、各機器の付属コントローラによるローカル制御が可能であること。 (ウ)収納チャンバ① 形状：ICF規格(ICF152×2ポート(Z方向)、ICF152×2ポート(Y＋方向)、ICF152×1ポート(Y-方向))② 材質：SUS304③ 長さ(Z方向)：約1400mm④ 枝ポート1. 高真空ゲージ接続用ICF70ポート×１2. 粗引きラインバルブ接続用ICF70ポート×13. パージ用リークバルブ接続用 ICF70ポート×１41(エ)ブランクフランジ① 形状：ICF152フランジ×２(オ)変換フランジ① 形状：ICF70：1/4インチSUSチューブ×１(カ)パージバルブ① ベローズシールバルブ(スウェージロック製SS-4H相当)×１(5) ビームビュワーユニットL1(ア)ビームビュワー本体① 発光面サイズ：直径約50mm、厚み約2mm② ビームガード：非検出部を前方アパーチャーより大きなサイズとし、ビームが通り抜ける隙間を作らない構造とする。 ③ 発光体取付け治具：発光体を交換できる構造とすること。 ④ 本体：想定される最大電力は10Wとし、これに耐える構造とすること。 ⑤ 材質1. 発光体：合成石英2. 発光体取付け治具：アルミニウムを主とする3. 駆動機構：SUS304を主とする(イ)取付け機構① 取付け方式：ICF152規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 (ウ)駆動機構① 駆動方式：圧空駆動型直線導入器によりIN、OUTを行う。 ② 真空境界：ベローズ式とする。 ③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 動作長：150mm程度、OUT時にはビュワー本体がビーム通過部(Z軸を中心とする55㎜×55㎜)から完全に退避する動作長を確保すること。 ⑤ 制御信号：制御系L1-Bにより、IN、OUT動作制御及び状態表示を行うこと。 (エ)前方アパーチャー① 開口：55㎜×55㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 (オ)収納チャンバ42① 形状：ICF規格ティー(ICF152×3ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約270mm④ 長さ(Y方向)：「(ウ)駆動機構」に示す動作長を確保する長さとする。 ⑤ 枝ポート1. ビューポート用ICF70ポート×１⑥ ビューポートフランジ(遮光カバー付属)1. ICF70フランジ：ビューポート×１(6) ビーム透過型真空仕切り薄膜ユニットL1(ア)薄膜本体① 1.0×10⁻1Pa：1.0×10⁻⁵Paの差圧により破損しないこと② 挿入時には真空コンダクタンスを抑えることで、上流側の高真空を維持することが可能な機構とすること。 ③ 駆動機構による動作により破損しないこと(耐久回数100往復以上)④ 薄膜部55㎜×55㎜以上⑤ ビームダクトから完全退避可能な構造であること⑥ 薄膜を交換できる構造であること⑦ 薄膜素材：アルミナイズドマイラー⑧ 薄膜厚み：ビームのエネルギーロスを小さくするため 1μm以下の極力薄いものとする。 ただし耐久性、設置性を損なわない範囲とする。 ⑨ 数量：12枚以上(うち2枚は駆動機構に取り付けること)(イ)駆動機構① IN、OUTの2点間動作とする② 駆動方式：動作は薄膜にダメージを与えないよう動作速度及び振動を抑えた方式とすること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 前後の真空差圧が一定値以下の場合にしか動作させられない等、薄膜を保護するためのインターロック及びフールプルーフを設けること。 ⑤ 数量：２台(このうち1台は薄膜損傷時の交換用予備機とするため据え付け調整の範囲から除外する)(ウ)駆動機構保管台① 駆動機構のうち交換用予備機１台を補完しておくための支持具および薄膜損傷防止用風除カバー② 数量1式(据え付け調整の範囲から除外する)(エ)真空排気システム43① 主排気ポンプ1. ターボ分子ポンプ(340L/s以上)2. 取付け方式：ICF規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 3. 電源電圧：単相AC200V② 補助排気ポンプ1. ドライポンプ(250L/min以上、NeoDry15G同等品)2. 電源電圧：単相AC200V③ 低真空ラインバルブ1. 駆動方式：圧空動作型電磁弁式2. 取り付け位置：主排気ポンプ下流3. 信号出力：開閉状態信号が出力可能であること4. 電源電圧：制御系L1-Aの仕様に従うこと。 ④ 粗引きラインバルブ1. 駆動方式：手動(回転動作式)2. 取付けフランジ：(ア)高真空側ICF70フランジ(イ)低真空側KF40フランジ3. 取り付け位置：収納チャンバ⑤ 高真空ゲージ1. 方式：ピラニ＋コールドカソード一体型2. 測定レンジ：1×10-6Pa以下 ～ 大気圧3. 取付けフランジ：ICF70フランジ4. 取付け位置：前方チャンバ及び後方チャンバ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系L1-Aの仕様に従うこと。 7. 数量：２⑥ バイパスラインバルブ1. 駆動方式：手動(回転動作式)2. 取付けフランジ：(ア)高真空側ICF70フランジ(イ)低真空側ICF70フランジ3. 取り付け位置：前方チャンバ4. 信号：開閉IN、OUTの状態に対応する信号を出力可能であること。 ⑦ バイパスライン441. ICF70規格標準サイズのダクト又はベローズにより前方チャンバと後方チャンバを接続する。 ⑧ 低真空ゲージ1. 方式：ピラニ2. 測定レンジ：約0.1Pa ～ 大気圧3. 取付け位置：低真空ライン4. 取付けフランジ：ICF70フランジまたはKF 40 フランジ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系L1-Aの仕様に従うこと。 ⑨ 低真空ライン1. KF40規格標準サイズのダクト又はベローズにより以下のフランジを接続すること。 (ア)主排気ポンプ低真空側(イ)低真空ラインバルブ(ウ)補助排気ポンプ(エ)低真空ゲージ(オ)粗引きバルブ2. 主としてKF40フランジによるクイックカップリング接続とする。 ただし、機器側のフランジがKF40でない場合、変換ニップル等による接続を行うこと。 ⑩ 制御：制御系L1-Aにより、各機器の動作、状態表示および真空インターロック制御を行うこと。 また、各機器の付属コントローラによるローカル制御が可能であること。 (オ)前方チャンバ① 形状：ICF規格ティー(ICF152×3ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約270mm④ 枝ポート1. 高真空ゲージ接続用ICF70ポート×１2. 粗引きラインバルブ接続用ICF70ポート×１3. バイパスラインバルブ接続用ICF70ポート×１4. パージ用リークバルブ接続用 ICF70ポート×１(カ)後方チャンバ① 形状：ICF規格ティー(ICF152×3ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約230mm45④ 枝ポート1. 高真空ゲージ接続用ICF70ポート×１2. 粗引きラインバルブ接続用ICF70ポート×１3. バイパスラインバルブ接続用ICF70ポート×１(キ)変換フランジ① 形状：ICF70：1/4インチSUSチューブ×１(ク)パージバルブ① ベローズシールバルブ(スウェージロック製SS-4H相当)×１(7) 4方向マスクユニットL1(ア)4方向マスク① マスク方式：直線導入器により駆動する板状のマスクをX±、Y±の4方向に設置し、それぞれを独立制御する。 Z軸を中心とする55㎜×55㎜の範囲で任意の矩形開口を設定できる構造とする。 ② マスク形状：長さ約70mm、幅約70mm③ マスク材質：タンタル④ マスク本体：想定される最大電力は10Wとし、これに耐える構造とすること。 ビーム電流を受け止めてその電荷を出力するため、他の部品とは絶縁された構造とすること。 ⑤ 材質：タンタル(マスク本体)及びSUS304(駆動機構)を主とする(イ)取付け機構(4台の駆動機構で同様とする)① 取付け方式：ICF253規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 (ウ)駆動機構(4台の駆動機構で同様とする)① 駆動方式：ステッピングモーター式直線導入器により任意の位置に挿入できる構造とする。 ② 真空境界：ベローズ式とする。 ③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 動作精度：1mm以下⑤ 動作長：70mm以上Z軸を中心とする55㎜×55㎜の範囲で任意の矩形開口を設定できる動作長を確保すること。 ⑥ 制御：制御系L1-Bにより任意位置への動作制御及び挿入位置のリードバックを行うこと。 (エ)前方アパーチャー① 開口：55㎜×55㎜46② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 (オ)収納チャンバ① 形状：ICF規格(ICF152×2ポート、ICF253×4ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約270mm④ 長さ(XY方向)：「(ウ)駆動機構」に示す動作長を確保する長さとする。 (カ)真空境界信号端子① ビーム電流用：ビーム電流を読み出すためのBNC端子を取付けフランジに備え、各マスク本体に接続すること(キ)ビーム電流信号処理器① マスクで受けるビーム電流0.1ｎA～100ｎAを測定可能な電流積算器または電流ログアンプ備えること。 ただし、測定する電流量は４つのマスクで受ける電流の和とする。 ② 制御：制御系L1-Bにより電流積算器または電流ログアンプのON、OFF操作、状態表示を行うこと。 また制御系L1-Bによりビーム電流をモニター可能であること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 (8) 電流測定ユニットL1-C(ア)ファラデーカップ① ビーム検出面サイズ：直径25mm程度② ビームガード：非検出部を前方アパーチャーより大きなサイズとし、ビームが通り抜ける隙間を作らない構造とする。 ③ 2次電子抑制器：最大－1500Vを印加可能な2次電子抑制電極を備え、1.0×10-3Pa以下の真空中で放電しない構造とすること。 ④ カップ本体：想定される最大電力は10Wとし、これに耐える構造とすること。 ビーム電流を受け止めてその電荷を出力するため、他の部品とは絶縁された構造とすること。 ⑤ 冷却機構：必要に応じて冷却機構を備えること。 ⑥ 材質：タンタル(カップ本体)及びSUS304(駆動機構、冷却機構)を主とする(イ)取付け機構47① 取付け方式：ICF152規格フランジの締結によって収納チャンバに脱着可能な構造とする。 (ウ)駆動機構① 駆動方式：圧空駆動型直線導入器によりIN、OUTを行う。 ② 真空境界：ベローズ式とする。 ③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 動作長：150mm程度、OUT時にはカップ本体がビーム通過部(Z軸を中心とする55㎜×55㎜)から完全に退避する動作長を確保すること。 ⑤ 制御信号：制御系L1-Bに接続する。 IN、OUT動作制御及び、IN、OUTの状態に対応する信号を通信すること。 (エ)前方アパーチャー① 開口：55㎜×55㎜② 外径：直径約100mm③ 治具：収納チャンバ内面に固定可能であること。 ④ 材質：タンタルを主とする⑤ 導通：全体がチャンバと導通し、電荷が蓄えられない構造とすること。 (オ)収納チャンバ① 形状：ICF規格ティー(ICF152×3ポート)② 材質：SUS304を主とする。 ③ 長さ(Z方向)：約270mm④ 長さ(Y方向)：「(ウ)駆動機構」に示す動作長を確保する長さとする。 (カ)真空境界信号端子① ビーム電流用：ビーム電流を読み出すためのBNC端子を取付けフランジに備え、カップ本体に接続すること。 ② 2次電子抑制器用：高電圧を印加するためのSHV端子を取付けフランジに備え、2次電子抑制器に接続すること(キ)ビーム電流信号処理器① 微小電流0.1ｎA～10μAを測定可能な電流積算器または電流ログアンプを備えること。 ② 制御：制御系L1-Bにより電流積算器または電流ログアンプのON、OFF操作、状態表示行うこと。 また制御系L1-Bによりビーム電流をモニター可能であること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 (ク)2次電子抑制器用高電圧電源① 出力：-1000V～0V、2mW以上② 電圧安定度：±0.1%以下、リップル数V以下48③ 制御：制御系L1-Bにより電圧のON、OFF操作及び出力電圧設定を行うこと。 ④ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 (9) ビームラインバルブL1(ア)方式：ゲートバルブ(イ)サイズ：ICF152フランジ接続サイズ(ウ)駆動方式：圧空動作型電磁弁式(エ)電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 (オ)制御信号：開閉操作及び① 最上流の1台を既存の制御系に接続する。 ② 最下流の１台を制御系L1-Bに接続する。 ③ その他のバルブは制御系L1-Aに接続する。 (カ)数量：５(10) ベローズL1(ア)ベローズ種類：成形ベローズ(イ)フランジサイズ：ICF152フランジ(ウ)材質：ステンレス製(SUS316L)仕様：自然長110㎜。 ばね定数：17.65N/mm以下。 軸直角方向ばね反力132.4N以下(軸直角変位量3.5mm)伸長サポート付(ねじれ吸収用長孔穴付き)基本仕様に準じて製作したエビデンスを提出図書に含めること。 (エ)数量：機器の据付調整が容易となるよう、適切な数量とすること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 (11) 単管L1(ア)フランジサイズ：ICF152フランジ(イ)材質：SUS304(ウ)長さ及び数量：機器の据付調整が容易となるよう、適切な長さ及び数量とすること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 (12) 照射チャンバL1(ア)概要：半導体照射用チャンバとして、真空機器(真空ポンプ、圧力計、バルブ等)、駆動システム付き試料台、試料台アライメント用レーザー、各種フランジを取り付け可能でかつ支持架台で支持可能な構造であること。 さらに、照射49チャンバ内部の圧力は、超高真空となる仕様・構造となるよう設計し製作するものである。 (イ)材質：主としてSUS304とする(ウ)本体構造・仕様① 照射チャンバは、X方向の円筒とZ方向の円筒を組み合わせた形状のチャンバとする。 ② 照射チャンバのX方向円筒部内部の有効寸法は、直径約1100mm × 長さ約1100mmとする。 Z-方向の円筒部内部の有効寸法は、直径約850mmとする。 ③ 照射チャンバの真空排気を行った際に、大気圧や自重による照射チャンバのたわみ量は全ての面において0.1mm以下である構造とすること。 ただし、移動ステージ及び位置決めレーザーへの影響が本たわみによる影響と同等以上に保てる場合はこの限りではない。 ④ 照射チャンバの設計後、強度計算を行い、たわみ軽減のために板の厚みなどを変更する場合には、新たな仕様を提案し、詳細については協議の上決定する。 ⑤ 照射チャンバ内部に取り付ける部品は空気溜りが出来ない構造とする。 ⑥ 照射チャンバ内部に取り付けるネジ及びボルト類は空気溜りができないよう、空気抜き穴が空いているものを使用する。 ⑦ 大気開放状態から廃棄開始後30分以内に1.0×10-2Pa以下に到達する性能を有すること。 (エ)構想図① 図４に示す(オ)ポート構成ポートフランジの締結用ボルト穴は、基本的には貫通穴を採用すること。 しかし、締結が困難な箇所等はタップ穴とする。 ポート長は指示無き場合ボルトナットで固定が可能である範囲で極力短く設定すること。 ICF253以上のサイズでかつ鉛直方向以外のポートフランジについては取付けの際にフランジ荷重を支え、位置合わせが容易となるようサポートを設ける。 照射チャンバ及び取り付けポートの内外径は、原則両端もしくは片端に接続するICF規格フランジの標準サイズとする。 大径Ｏリングシールを有する開き戸用ポートは、Ｏリングが容易に脱落しない様に脱落防止の構造を有すること。 50照射チャンバの詳細な構造や寸法、真空ポートの取り付け位置は、設計後担当者と協議の上、決定する。 ① チャンバ側面ポート(X方向端面)1. フランジ直径約1200mm(Oリングシール)×２2. ヒンジ付きの水平方向の開き戸式とする。 3. ヒンジ付きの水平方向の開き戸式とする。 ヒンジ部は摩擦を抑える機構とし、手動で平滑に動かすことが可能であること。 開位置を保持できる半固定型とし、挟み込み防止のためのストッパーを設けること。 閉時に無理なく締結具で固定できる位置となること。 ③ チャンバ上流ポート(Z-方向端面)1. フランジ直径約950mm(Oリングシール)×１④ 真空排気ポート1. フランジ直径300mm以上(真空仕切りバルブ仕様に従う)×２2. ICF70ポート×3⑤ 拡張ポート1. ICF305ポート×１⑥ 信号ポート1. CF203ポート×４2. ICF152ポート×１０3. ICF114ポート×２4. ICF70ポート×４⑦ 直線導入器ポート1. ICF114ポート×42. ICF253ポート×2⑧ 水平位置決めラインレーザー用ポート1. ICF70ポート以上×１(チャンバ中心位置からX方向に±50mm以上のラインが表示可能であること)⑨ 鉛直位置決めラインレーザー用ポート511. ICFポート70以上×１(チャンバ中心位置からY方向に±50mm以上のラインが表示可能であること)⑩ 位置決めスポットレーザー用ポート1. ICF70ポート×２⑪ ビューポート各種1. ICF114ポート×42. ICF152ポート×３3. ICF70ポート×2⑫ パージ用リークバルブ接続用 ICF70ポート×１(カ)付属フランジ変換フランジの構造や寸法、各部品の材質は、設計後担当者と協議の上、決定する。 フランジを取り付ける位置は、設計後担当者と協議の上、決定する。 ICF152以上のサイズのフランジについては持ち手を付けること。 ① 変換フランジ1. 直径約1200mm-直径約500mm×２2. 直径約500mm-ICF152規格×２3. ICF 253 フランジ -(ICF 114×２ポート)×２4. ICF 203フランジ - ICF 152×１ポート5. ICF 950 フランジ - ICF 203×１ポート6. ICF 305 フランジ - ICF 70×1ポート② ビューポートフランジ(遮光カバー付属)1. ICF 152フランジ：ビューポート×32. ICF 114フランジ：ビューポート×43. ICF 70フランジ：ビューポート×6③ 信号フランジ1. ICF 152フランジ：多ピン100pin×２端子×３2. ICF 152フランジ：BNC×８端子×23. ICF 152フランジ：SHV×４端子×１4. ICF 152フランジ：LAN×２端子＋USB×２端子 ×25. ICF 203フランジ：ステージ制御信号用×１④ ブランクフランジ1. ICF 152フランジ：ブランク×22. ICF 70フランジ：ブランク×４523. ICF 114フランジ：ブランク×２4. ICF 203フランジ：ブランク×４⑤ リークバルブ用変換フランジ1. ICF70：1/4インチSUSチューブ×１(キ)位置決めレーザー① 水平位置決めラインレーザー1. 出力：0.1mW以上2. 線幅：試料表面にて3㎜以下であること。 3. 水平ライン精度：0.5度以下であること。 4. 表示範囲：チャンバ中心位置からX方向に±50mm以上のラインが表示可能であること。 5. 取付け：調整機能付き固定台を備え、使用者にて操作調整可能であること。 6. 数量：１② 鉛直位置決めラインレーザー1. 出力：0.1mW以上2. 線幅：試料表面にて3㎜以下であること。 3. 鉛直ライン精度：0.5度以下であること。 4. 表示範囲：チャンバ中心位置からY方向に±50mm以上のラインが表示可能であること。 5. 取付け：調整機能付き固定台を備え、使用者にて操作調整可能であること。 6. 数量：１③ 位置決めスポットレーザー及び調整台1. 出力：0.1mW以上2. スポットサイズ：試料表面にて線径1.5㎜以下であること。 3. 表示範囲：チャンバ中心位置からXY平面にて±50mm×±50mm以上の範囲に光点調節が可能であること。 4. 取付け：調整機能付き固定台を備え、使用者にて操作調整可能であること。 5. 数量：２(ク)真空排気システム① 真空仕切りバルブ1. 取付けフランジ：直径300mm以上53(ア)主排気ポンプの性能を損なわないサイズとすること。 2. バルブ方式：ゲートバルブ3. 駆動方式：圧空動作型電磁弁式4. 電源電圧：制御系L1-B仕様に従うこと。 5. 取付け箇所：主排気ポンプ吸気側② 主排気ポンプ1. ターボ分子ポンプ(2000L/s以上)2. 取付け方式：ターボ分子ポンプフランジの締結によること3. 電源電圧：単相AC200V4. 数量：2③ 補助排気ポンプ1. ドライポンプ(500L/min以上、NeoDry相当品)2. 電源電圧：単相AC200V3. 排気能力及び数量：性能を達成可能な容量・個数とし、設計後担当者と協議の上決定する。 ④ 低真空ラインバルブ1. 駆動方式：圧空動作型電磁弁式(電磁弁駆動電圧は制御系L1-Bの仕様に従う)2. 取り付け位置：主排気ポンプ下流3. 信号出力：開閉状態信号が出力可能であること4. 電源電圧：制御系L1-Bに従う⑤ 粗引きラインバルブ1. 駆動方式：手動(回転動作式)2. 取付けフランジ：(ア)高真空側ICF70フランジ(イ)低真空側KF40フランジ3. 取り付け位置：照射チャンバ4. 数量：設計後担当者と協議の上、決定する。 ⑥ 高真空ゲージ1. 方式：ピラニ＋コールドカソード一体型2. 測定レンジ：1×10-6Pa以下 ～ 大気圧3. 取付けフランジ：ICF70フランジ4. 取付け位置：収納チャンバ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系L1-Bに従う⑦ 低真空ゲージ541. 方式：ピラニ2. 測定レンジ：約0.1Pa ～ 大気圧3. 取付け位置：低真空ライン4. 取付けフランジ：ICF70フランジまたはKF 40 フランジ5. 信号出力：真空度アラーム信号が出力可能であること6. 電源電圧：制御系L1-Bの仕様に従うこと。 ⑧ 低真空ライン1. KF40規格標準サイズのダクト又はベローズにより以下のフランジを接続すること。 (ア)主排気ポンプ低真空側(イ)低真空ラインバルブ(ウ)補助排気ポンプ(エ)低真空ゲージ(オ)粗引きバルブ2. 主としてKF40フランジによるクイックカップリング接続とする。 ただし、機器側のフランジがKF40でない場合、変換ニップル等による接続を行うこと。 ⑨ 制御：制御系L1-Bにより、各機器の動作、状態表示および真空インターロック制御を行うこと。 また、各機器の付属コントローラによるローカル制御が可能であること。 (ケ)試料移動ステージ① 動作軸及び動作範囲1. X：500mm以上(水平)2. Y：±150mm以上(鉛直)3. Z：±100mm以上(ビーム軸に対し前後)4. R：±180°以上(試料法線軸回転)5. θ：±90°以上 (鉛直軸回転)② 位置決め精度XYZ：10µm以下Rθ：0.1°以下③ 真空仕様(低脱ガス)型④ 制御：制御系L1-Bにより動作制御、状態表示を行う。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ⑤ ステージ架台：アライメント機構付きとする。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 55⑥ 通電試料取り付けコネクタ：通電及び脱着が容易となる取り付けコネクタをそなえること。 詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 (コ)直線導入器① 駆動方式：ステッピングモーター式直線導入器により任意の位置に挿入できる構造とする。 ② 真空境界：ベローズ式とする③ 取付けフランジ：ICF114フランジ④ 動作精度：1mm以下⑤ 動作長：300mm以上⑥ 制御信号：制御系L1-Bにより、任意位置への動作制御及び挿入位置のリードバックを行うこと。 ⑦ 測定信号端子：取付けフランジに信号線フィードスルーを設けること。 1. BNC端子×32. HVS端子×1⑧ 数量：4式(サ)パージバルブ① ベローズシールバルブ(スウェージロック製SS-4H相当)×１(13) 制御系L1制御系の詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 (ア)L1-A系統① 制御対象：チャンバ直前のビームラインバルブより上流に位置する照射チャンバ側の真空機器1. ビームラインバルブ(ただし、最上流のビームラインバルブを除く)2. ビーム拡散ユニットにおける真空排気システム3. 汎用ユニットにおける真空排気システム4. ビーム透過薄膜ユニットにおける真空排気システム② 制御内容：1. 各真空機器の動作(ウ)排気ポンプの動作及び停止(エ)バルブ操作2. 真空インターロック連動制御(ア)高真空側真空が悪化した場合① 3×10-３Pa以上の場合1. 検知部前後のビームラインバルブ閉56② 100Pa以上の場合1. 検知部直近の主排気ポンプの停止(イ)低真空側真空が悪化した場合① 主排気ポンプの背圧限度以上の場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブの閉(ウ)排気ポンプのエラーが出た場合① 主排気ポンプのエラーの場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブの閉② 補助排気ポンプのエラーの場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブ閉(エ)主排気ポンプ動作中に非推奨操作があった場合① 低真空ラインバルブが閉となった場合1. 主排気ポンプの停止② 補助排気ポンプが停止された場合1. 主排気ポンプの停止2. 低真空ラインバルブ閉③ 開動作させようとするビームラインバルブの前後差圧が一定値(動作可能差圧)を超える場合1. ビームラインバルブの開操作不可④ 開動作させようとするビームラインバルブの前後の真空度のいずれかが100Pa以上の場合1. ビームラインバルブの開操作不可(オ)インターロックのバイパス機能① 真空立ち上げ時における一部バイパス② 全インターロックのバイパス詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 出力電圧：各機器の動作電圧及び制御電圧を出力する。 ⑤ 制御システム1. 数量：1式57詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ⑥ 操作・表示盤1. 操作方法：アナログスイッチ式操作盤2. 表示内容：真空機器状態表示、真空度、アラーム表示3. 表示方法(ア)LEDインジケーター(イ)ディスプレイ表示(真空度)詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 4. 数量：1式(イ)L1-B系統① 制御対象：照射チャンバ直前のビームラインを含み照射チャンバ側の真空機器、試料ステージ、及び直線導入器により動作する機器(ただし最上流の電流測定ユニットを除く)1. 電流測定ユニットBにおける電流測定器2. 電流測定ユニットCにおける電流測定器3. ビーム透過薄膜ユニットにおけるビーム透過薄膜機構4. 4方向マスクユニットにおける4方向マスク5. 照射チャンバ直前のビームラインバルブ6. 照射チャンバの真空排気システム7. 照射チャンバの試料ステージ② 制御内容：1. 各真空機器の動作(ア)排気ポンプの動作及び停止(イ)バルブ操作(ウ)真空インターロックの制限値の設定2. 真空インターロック連動制御(ア)高真空側真空が悪化した場合① 設定値以上の場合1. 検知部前後のビームラインバルブ閉② 主排気ポンプの許容圧力以上の場合1. 検知部直近の主排気ポンプの停止(イ)低真空側真空が悪化した場合① 主排気ポンプの背圧限度以上の場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止583. 低真空ラインバルブの閉(ウ)排気ポンプのエラーが出た場合① 主排気ポンプのエラーの場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブの閉② 補助排気ポンプのエラーの場合1. ビームラインバルブ閉2. 主排気ポンプの停止3. 低真空ラインバルブ閉(エ)主排気ポンプ動作中に非推奨操作があった場合① 低真空ラインバルブが閉となった場合1. 主排気ポンプの停止② 補助排気ポンプが停止された場合1. 主排気ポンプの停止2. 低真空ラインバルブ閉③ 開動作させようとするビームラインバルブの前後差圧が一定値(動作可能差圧)を超える場合1. ビームラインバルブの開操作不可④ 開動作させようとするビームラインバルブの前後の真空度のいずれかが設定値以上の場合1. ビームラインバルブの開操作不可(オ)インターロックのバイパス機能① 真空立ち上げ時における一部バイパス② 全インターロックのバイパス詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 3. 制御対象機器の動作4. ビーム電流読み出し(電流等の換算値の表示を行うこと)詳細は設計後担当者と協議の上、決定する。 ③ 電源電圧：設計後担当者と協議の上、決定する。 ④ 出力電圧：各機器の動作電圧及び制御電圧を出力する。 ⑤ 制御システム1. 数量：1式⑥ 操作・表示盤591. 操作方法：モニター表示およびモニター上での操作を可能とすること。 ただし、真空計操作と測定系操作は明確に操作範囲の分離を行い、表示やフールプルーフを設け誤操作防止に努めること。 2. 表示方法：制御系ラックにマウントし、視認性の良好なディスプレイを採用すること。 3. 表示内容：ビーム電流表示、各機器状態表示、真空度、アラーム表示、各設定値。 4. 遠隔通信方式：制御室への通信はLANによるものとする。 必要なLANルーター、室内配線敷設を行うこと。 (ターゲット室から制御室までのLANの敷設は契約範囲外とする)5. 数量：2(ビームライン現場用、制御室用)(14) 支持架台L1架台の詳細な構造や寸法は設計後、担当者と協議の上決定する。 (ア)照射チャンバ固定架台① 荷重を十分に支える構造とすること。 ② XYZ方向の押しネジにより、ビームラインのアライメントを行うための機構を設けること。 調整幅は各軸について±20mm以上とする。 ③ 主材を鉄とするときは錆止め及び焼付塗装を行うこと。 ④ 支持架台の下部に、移動用タイヤを取り付けること⑤ アンカー固定を行うこと。 ⑥ ビームライン高さ1450mmにチャンバ中心を調整できること(イ)ビームライン固定架台(照射チャンバ部を除く)① 荷重を十分に支える構造とすること。 ② 主材を鉄とするときは錆止め及び焼付塗装を行うこと。 ③ アンカー固定を行うこと。 ④ ビームラインサポート1. 固定架台上にZ方向に移動可能なビームラインサポートを設けること。 2. 固定架台に対しボルトで固定する構造とすること。 3. XY方向4か所の押しネジにより、ビームラインのアライメントを行うための機構を設けること。 調整幅は±20mm以上とする。 4. 数量：ビームラインを十分に固定し、ベローズに負担がかからない間隔及び配置で適切な数量を設けること。 5. 材質：主としてアルミニウムとする。 ⑤ サポートと合わせてビームライン高1450にダクト中心を調整できるこ60と。 ⑥ ビームラインサポートを用いずに固定する収納チャンバについてはビームライン高さ1450mmに収納チャンバ中心を調整できること⑦ ケーブル収納機能付きであること。 (ウ)各機器の支持架台① ビームラインダクトで支持することが推奨されない重量となる機器については専用の架台を設けること。 ② アンカー固定または固定架台へボルト等により結合させること。 ③ 可能な限りビームライン下部に収めること。 (エ)制御系ラック１① 19インチ規格ラックとする。 ② 制御系を固定できるものとする③ アンカー固定または固定架台へボルト等により結合させること。 (オ)制御系ラック２① 19インチ規格ラックとする。 ② 制御系の内(操作・表示盤)を固定できるものとする③ 転倒防止対策を施すこと。 2.2.3.4 据付調整(1) 範囲：「2.2.3.3 構成機器」に含まれる機器(2) 構造・形状・仕様：(ア)据付調整を行う際は、既設の機器やケーブルラックなどと干渉がないように据付調整をする。 (イ)機器を床面に固定するためのアンカー打設作業を行う際は、防塵マスクを着用の上、HEPAフィルタ付き掃除機を使用し粉塵を吸引しながら実施する。 (ウ)ビームラインの据え付け後、アライメント作業を行うこと。 アライメント作業にはセオドライトやオートレベラー等の光学測定装置を用いて行い、据付精度は0.5mm以下を実現すること。 (3) 数量：1式2.3 試験検査以下の項目に関して、試験検査を実施する。 (1)～(5)については工場立ち合い検査を実施する。 (1) 外観検査61製作品および調達品に対して性能を損なう恐れのある損傷やバリ等のないことを確認する。 原則として、すべての部品に対して本検査を実施すること。 目視にて検査する。 (2) 寸法検査製作した全ての部品等に関して、製作設計図と相違がないことを計測にて確認する。 (3) 員数検査製作品および調達品すべてに対して、員数に過不足のないことを目視にて確認する。 (4) 洗浄度検査洗浄完了後の超純水の比抵抗値が3MΩ・cm以上であることを確認する。 (5) 真空封止検査ヘリウムリーク検出器により、ヘリウム吹き付け法においてリーク量が10-10Pa･m3/sec以下であることを確認する。 (6) 真空性能試験照射チャンバについては、単体で大気開放状態から排気開始後30分以内に1.0×10-2 Pa以下に到達することを確認する。 ビームライン全体については各ポートに閉止フランジ及び真空ポンプを取り付け、ガス成分分析機を接続し、質量数400程度までの成分分析を行う。 (7) 絶縁導通試験設置した機器、ケーブル配線及びフランジ取付け信号端子の絶縁および導通を確認する。 (8) ケーブル敷設検査ケーブル固定用結束バンドの切断面が安全な状態であることを確認する。 (9) 配管検査設置した気体用配管については常用圧力にて加圧された状態で聴音によりリークが無いことを確認する。 設置した冷却水用配管については通水から24時間以上経過後に水漏れのないことを確認する。 (10) 動作確認検査設置した機器が全て異常なく、正常に動作することを確認する。 2.4 特記事項(1) 受注者は、原子力機構側と緊密な連絡を取りつつ設計検討を行うこと。 (2) 受注者は原子力機構が原子力の研究・開発を行う機関であるため、高い技術力及び高い信頼性を社会的にもとめられていることを認識し、原子力機構の規程等を遵守し安全性に配慮し業務を遂行しうる能力を有する者を従事させること。 62(3) 受注者は、原子力機構側から提示する設計前提条件となる加速器の基本仕様等の知り得た情報を本件契約以外の目的で特定の第三者に提供しようとするときは、あらかじめ書面による原子力機構側の承認を得なければならないものとする。 (4) 本仕様に記載されている事項及び本仕様書に記載のない事項について疑義が生じた場合には、双方の協議の上決定する。 (5) 本契約実施に際して、実行上の疑義が生じた場合には、別途協議の上、原子力機構が指示するものとする。 (6) 本検討により得られた成果を利用または処分する権利は、原子力機構に帰属する。 但し、受注者は原子力機構側の書面による同意を得て、この成果を利用することが出来るものとする。 また、新たに特許出願を行う場合には、原子力機構側と共同で出願すること。 (7) 受注者は、本契約に基づく業務の内容および成果について、発表もしくは公開し、または特定の第三者に提供しようとするときは、あらかじめ書面による原子力機構側の承認を得なければならないものとする。 (8) 原子力機構に提出する図書は和文にて作成すること。 (9) 受注者は原子力機構内施設へ製作物を設置する際に異常事態等が発生した場合、原子力機構の指示に従い行動するものとする。 また、契約に基づく作業等を起因として異常事態等が発生した場合、受注者がその原因分析や対策検討を行い、主体的に改善するとともに、受注者による原因分析や対策検討の結果について機構の確認を受けること。 63図１ 電力配線ルート概略図上：照射用ビームライン(H2)、下：照射用ビームライン(L1)64図２ 圧空・窒素配管ルート概略図上：照射用ビームライン(H2)、下：照射用ビームライン(L1)65図３ 照射用ビームライン(H2)の全体の構想図及び照射チャンバH2の構想図66図４ 照射用ビームライン(L1)の全体の構想図及び照射チャンバL1の構想図67以上